[发明专利]一种噻吩并吡啶酮类化合物的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210260018.6 申请日: 2012-07-25
公开(公告)号: CN102746319A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 董德文;张睿;梁永久 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: C07D495/04 分类号: C07D495/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波
地址: 130022 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 噻吩 吡啶 酮类 化合物 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于有机合成领域,尤其涉及一种噻吩并吡啶酮类化合物的制备方法。

背景技术

噻吩并吡啶类化合物是国内外研究的最为热门的杂环化合物之一,该类化合物已被广泛用于染料行业,并且在杀菌、抗肿瘤和癌症等方面也有很好的疗效,可以用作镇定剂及治疗高血压、哮喘、糖尿病、溃疡病和神经性疾病的药物。

其中,噻吩并吡啶酮类化合物是一种广泛存在于天然产物之中的有机化合物,大部分具有重要的生物、药物活性,如:噻吩并[2,3-b]吡啶-6(7H)-酮类衍生物可作为激酶抑制剂,噻吩并吡啶酮甲酰胺可用于治疗恶性肿瘤、自身免疫性或病理性炎症引起的疾病以及已商品化的口服抗血小板药普拉格雷也为噻吩并吡啶酮类衍生物。同时,噻吩并吡啶酮类化合物也可作为一类多功能有机化合物的中间体,广泛应用于有机合成化学、药物合成化学等领域,如:药物活性化合物非肽类人促黄体激素释放激素(LHRH)受体拮抗剂,血管活性肠肽受体抑制剂等,其基本母核结构均为噻吩并吡啶酮。

目前,噻吩并吡啶酮类化合物的合成方法主要分为三类:对噻吩并吡啶酮母核结构进行化学修饰;吡啶硫酮类化合物成环;噻吩类化合物成环。采用已有噻吩并吡啶酮为原料对其母环结构进行化学修饰,只能修饰已有的母核结构,不能合成新的噻吩并吡啶酮结构,并且只适用于母环上带有活性取代基团的噻吩并吡啶酮,其应用范围受到一定限制。由吡啶硫酮类化合物经成环反应构建并噻吩环合成噻吩并吡啶酮类化合物,包括腈基吡啶硫酮、醛基吡啶硫酮类化合物与α-卤代羰基化合物反应,此类合成反应过程中产生卤化氢,需要加入碱作为缚酸剂。噻吩类化合物通过成环反应构建并吡啶酮结构,需经过酮与碳酸二甲酯的缩合反应、1,3-二羰基化合物与酸酐的缩合反应、烯醇的取代反应以及氮杂成环反应等较多步骤实现;并且此合成方法只适用于2-位上带有卤素基团的噻吩类化合物,合成得到5-位带有羰基取代的噻吩并吡啶酮类化合物,其应用范围受到一定限制。

专利号为WO2005018567和文献“Design,syhtnesis,and structure-activity relations of thieno[2,3-b]pyridin-4-one derivatives as a novel class of potent,orally active,non-peptide luteinizing hormone-releasing hormone receptor antagonists”(J.Med.Chem.2006,49,3809)公布了多种可作为药物合成中间体或者其本身具有生物药物活性的噻吩并吡啶酮类化合物。这类噻吩并吡啶酮化合物均通过噻吩化合物成环合成,合成步骤较多,并且需要根据不同的取代基团选择不同的合成方法,应用范围受到限制。本发明针对这类噻吩并吡啶酮化合物提出了一种新的合成方法。

发明内容

有鉴于此,本发明要解决的技术问题在于提供一种噻吩并吡啶酮类化合物的制备方法,该方法步骤简单且适用范围较广。

本发明提供了一种噻吩并吡啶酮类化合物的制备方法,包括以下步骤:

将式(I)结构的2-胺基-3-乙酰基噻吩类化合物与N,N-二甲基甲酰胺二甲基缩醛反应,得到式(II)结构的噻吩并吡啶酮类化合物;

其中,R1为-H、-A、-COA、-CONA2、-COAr、-SO2A、-SO2Ar、-Ar或-Het;

R2为-COA、-COAr、-COOA、-Ar或-Het;

所述A为C1~C30链状烷基、C1~C30取代链状烷基或C3~C7环烷基;

所述Het为含1~4个杂原子的单环不饱和杂环、含1~4个杂原子的双环不饱和杂环、含1~4个杂原子的取代单环不饱和杂环或含1~4个杂原子的取代双环不饱和杂环,所述杂原子为N、O和S原子中的一种或多种。

优选的,所述C1~C30取代链状烷基为含1~20个取代基团的链状烷基,所述取代基团为OH、F、Cl、Br、Ar和Het中的一种或多种。

优选的,所述取代单环不饱和杂环和取代双环不饱和杂环各自独立含有1~3个取代基团;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春应用化学研究所,未经中国科学院长春应用化学研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210260018.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top