[发明专利]一种带有防止金属扩散保护层的复合衬底有效

专利信息
申请号: 201210255792.8 申请日: 2012-07-23
公开(公告)号: CN103579471A 公开(公告)日: 2014-02-12
发明(设计)人: 孙永健;张国义;童玉珍 申请(专利权)人: 东莞市中镓半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/62 分类号: H01L33/62;H01L33/48
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所(普通合伙) 11200 代理人: 李稚婷
地址: 523500 *** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 带有 防止 金属 扩散 保护层 复合 衬底
【权利要求书】:

1.一种用于GaN生长的复合衬底,包括一导热导电层和位于该导热导电层上的GaN单晶层,其中所述导热导电层的熔点大于1000℃,其特征在于,至少在复合衬底的侧壁包裹有防止金属扩散的保护层,所述保护层的材料为非金属,不具有挥发性,且在1100℃以内不分解也不熔化。

2.如权利要求1所述的复合衬底,其特征在于,所述保护层的材料为SiO2、Si3N4、SiC、GaN或AlN。

3.如权利要求1或2所述的复合衬底,其特征在于,所述保护层包裹区域为下列六种之一:1)仅包裹复合衬底的侧壁;2)包裹复合衬底的侧壁和所述GaN单晶层表面边缘1-10mm宽的区域;3)包裹复合衬底的侧壁和所述导热导电层底面边缘1-10mm宽的区域;4)包裹复合衬底的侧壁,以及所述GaN单晶层表面边缘1-10mm宽的区域和所述导热导电层底面边缘1-10mm宽的区域;5)包裹复合衬底的侧壁和所述导热导电层的全部底面;6)包裹复合衬底的侧壁,以及所述导热导电层的全部底面和所述GaN单晶层层表面边缘1-10mm宽的区域。

4.如权利要求1或2所述的复合衬底,其特征在于,所述保护层的厚度为20纳米~5微米,优选为100纳米~2微米。

5.如权利要求1或2所述的复合衬底,其特征在于,所述导热导电层的厚度为10微米~3000微米,优选为50微米~400微米;所述GaN单晶层的厚度为0.1微米~100微米,优选为1微米~50微米。

6.如权利要求1或2所述的复合衬底,其特征在于,所述导热导电层的材料选自金属W、Ni、Mo、Pd、Au和Cr中一种或多种的合金,或者是这些金属中的一种或多种与Cu的合金,或者是Si晶体、SiC晶体或AlSi晶体。

7.如权利要求1或2所述的复合衬底,其特征在于,所述导热导电层与GaN单晶层之间具有一柔性介质键合层。

8.如权利要求1或2所述的复合衬底,其特征在于,所述复合衬底内还具有一反射层,该反射层位于GaN单晶层的内部、底部或底面,所述GaN单晶层的底面是指GaN单晶层与导热导电层连接的一面。

9.如权利要求8所述的复合衬底,其特征在于,所述反射层是位于GaN单晶层底面的金属反射层,或者是位于GaN单晶层的内部或底部的具有光栅或光子晶格结构的周期性结构层。

10.如权利要求1或2所述的复合衬底,其特征在于,所述导热导电层上依次是键合层、反射层和GaN单晶层。

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