[发明专利]抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法无效
申请号: | 201210251293.1 | 申请日: | 2012-07-19 |
公开(公告)号: | CN102890415A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 市川幸司;安立由香子;藤田真吾 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李新红 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抗蚀剂 组合 用于 生产 图案 方法 | ||
1.一种抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物包含:
具有由式(I)表示的结构单元的树脂,
在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂,和
由式(II)表示的酸生成剂,
其中R1表示氢原子或甲基;
A1表示C1至C6烷二基;
A13表示任选具有一个或多个卤素原子的C1至C18二价脂肪族烃基;
X12表示*-CO-O-或*-O-CO-;
*表示与A13的连接;
A14表示任选具有一个或多个卤素原子的C1至C17脂肪族烃基;
其中RII1和RII2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基;
LII1表示单键、C1至C6烷二基、C4至C8二价脂环烃基、-(CH2)t-CO-O-*或-(CH2)t-CO-O-CH2-(CH2)u-*,所述烷二基、-(CH2)t-CO-O-*或-(CH2)t-CO-O-CH2-(CH2)u-*中含有的一个或多个-CH2-可以被-O-代替;
t表示1至12的整数;
u表示0至12的整数;
*表示与YII1的连接;
YII1表示任选被取代的C3至C18脂环烃基,并且所述脂环烃基中含有的一个或多个-CH2-可以被-O-、-CO-或-SO2-代替;
RII3、RII4、RII5、RII6和RII7独立地表示氢原子、羟基、C1至C6烷基、C1至C6烷氧基、C2至C7烷氧基羰基或C2至C12酰氧基,
阳离子的含硫环中所含有的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替;
n表示1至3的整数;
s表示0至3的整数;并且
RII8在每一次出现时均独立地表示C1至C6烷基。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物,所述抗蚀剂组合物还包含由式(III)表示的酸生成剂;
其中RIII1和RIII2独立地表示氟原子或C1至C6全氟烷基;
LIII1表示单键或C1至C17二价饱和烃基,所述饱和烃基中的一个或多个氢原子可以被氟原子或羟基代替,并且所述饱和烃基中含有的一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替;
YIII1表示任选被取代的C1至C18烷基或任选被取代的C3至C18脂环烃基,并且所述烷基和脂环烃基中含有的一个或多个-CH2-可以被-O-、-CO-或-SO2-代替;并且
Z+表示有机阳离子。
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