[发明专利]一种垂直磁记录材料的制备方法

权利要求书

1.一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于按如下步骤进行：

（1）基板选择：选取MgO（111）单晶作为基板，将其放入装有丙酮的超声波容器中清洗1min后脱脂，再用棉棒蘸酒精轻擦基板表面，随后再次将基板放入装有丙酮的超声波容器中清洗3min，最后将基板放入装有酒精的超声波容器中清洗3min后，取出吹干；

（2）基板预热：将经充分清洁后的MgO（111）基板放至磁控溅射设备的真空腔内，抽真空，通电加热至300℃，烘烤1h，然后冷却2h，并继续保持真空状态；

（3）下底层成分调整：首先在纯金属Ru靶上粘贴纯Cr金属片作为RuCr复合靶材，然后向磁控溅射设备的真空腔内充入氩气，调整氩气流量，将溅射压力调节为5~10mTorr，其溅射电压为240V，溅射电流为30mA，得到以RuCr作为下底层的MgO(111)单晶基板；

（4）磁性层薄膜的制备：在CoW复合靶材上粘贴纯Pt金属片，制成CoWPt复合靶材，然后将溅射得到的以RuCr作为下底层的MgO(111)单晶基板移至CoWPt复合靶材处，在磁控溅射设备中通入氩气，在RuCr下底层上溅射CoWPt磁性薄膜，溅射电压240V，溅射电流30mA，溅射压力为5～10mTorr，得到最终产品CoWPt/RuCr/MgO材料。

2.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的纯金属Ru，Cr，Co，W，Pt的纯度均为99.5wt%以上。

3.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的MgO(111)单晶基板为单面或双面抛光基板。

4.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的步骤（2）中将磁控溅射设备的真空腔内抽真空至10^-7Torr以下，并保持真空状态下的真空度为10^-7Torr以下。

5.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的步骤（3）中RuCr复合靶材中的合金组分原子百分比为Ru:Cr=4:1。

6.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的步骤（3）中在MgO(111)单晶基板上溅射的一层RuCr薄膜厚度为10~20nm。

7.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的步骤（4）中磁性层薄膜的组成为（Co_0.85W_0.15）₉₀Pt₁₀。

8.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的步骤（4）中CoWPt磁性薄膜的厚度为5~15nm。

9.根据权利要求1所述的一种垂直磁记录材料的制备方法，其特征在于所述的步骤（4）中得到的最终产品CoWPt/RuCr/MgO材料的磁晶各向异性能为4.2～6.1×10⁶erg/cc。