[发明专利]用于射频识别标签的静电保护电路无效

专利信息
申请号: 201210242267.2 申请日: 2012-07-04
公开(公告)号: CN102779818A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 庄奕琪;李小明;李润德;崔海良;张翼 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H02H9/00
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 田文英;王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 用于 射频 识别 标签 静电 保护 电路
【权利要求书】:

1.一种用于射频识别标签的静电保护电路,包括:通过天线端口相连的集成PNP型双极晶体管和集成NPN型双极晶体管两个部分:

所述的集成PNP型双极晶体管由多个PNP型双极晶体管组成,PNP双极晶体管的发射极接射频识别标签的天线端口,基极和集电极短接后接地;

所述的集成NPN型双极型晶体管由多个NPN型双极晶体管组成,NPN双极晶体管的发射极接射频识别标签的天线端口,基极和集电极短接后接地。

2.根据权利要求1所述的用于射频识别标签的静电保护电路,其特征在于:所述的PNP型双极晶体管的个数为1至10个。

3.根据权利要求1所述的用于射频识别标签的静电保护电路,其特征在于:所述的PNP型双极晶体管结构,包括:以P型衬底作为PNP型双极晶体管的集电区,在衬底上进行P型杂质注入形成欧姆接触,淀积金属作为PNP型双极晶体管的集电极;在P型衬底上进行N阱注入,作为PNP型双极型晶体管的基区,在N阱上进行N型杂质注入形成欧姆接触,淀积金属作为PNP型双极晶体管的基极;在N阱里进行P型杂质注入作为PNP管的发射区,淀积金属形成发射极。

4.根据权利要求1所述的用于射频识别标签的静电保护电路,其特征在于:所述的NPN型双极晶体管的个数为1至10个。

5.根据权利要求1所述的用于射频识别标签的静电保护电路,其特征在于:所述的NPN型双极晶体管的器件结构,包括:以P型衬底作为NPN型双极晶体管的基区,在衬底上进行P型杂质注入形成欧姆接触,淀积金属作为NPN型双极晶体管的基极;在P型衬底上进行N阱注入,形成NPN型双极晶体管的集电区,在N阱中进行N型杂质注入形成欧姆接触,淀积金属作为NPN型双极晶体管的集电极;在P型衬底上进行N型杂质注入形成NPN管的发射区,淀积金属作为NPN双极型晶体管的发射极。

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