[发明专利]耐电晕聚酰亚胺膜及其制备工艺

权利要求书

1.一种耐电晕聚酰亚胺膜，其特征在于，包含如下组份及配方：

A组份：由N,N一二甲基乙酰胺，纳米填料，高分子树脂，硅烷偶联剂组成，通过预分散及高压分散制备成均匀而稳定的耐电晕浆；所述纳米填料至少一种选自纳米三氧化二铝，或纳米二氧化硅，或纳米二氧化钛，或选自其中的二种，或三种混合填料，优选纳米三氧化二铝填料，其添加量为聚酰胺溶液中固体量的10~35%，更优选采用16~28%，其中树脂添加量与纳米填料量之比为1：1，其中助剂用量为溶剂量的0.03~0.5%，优选0.03~0.08%；

B组份：由均苯四甲酸二酐在N,N一二甲基乙酰胺中与4，4’一二氨基二苯醚或4，4’一二氨基二苯醚和对苯二胺反应制成的低分子聚酰胺酸溶液；其反应的mol比为≤0.8：1或≤0.8：0.7：0.3，其中4，4’—二氨基二苯醚与对苯二胺的mol比为0.7:0.3；

耐电晕高分子聚酰胺酸溶液：由A、B组份混合均匀后成为耐电晕低分子聚酰胺酸溶液，通过增加均苯四甲酸二酐进行深入的原位聚合反应，生成耐电晕高分子聚酰胺酸溶液，其中均苯四甲酸二酐与4，4’—二氨基二苯醚或4，4’—二氨基二苯醚和对苯二胺最终的反应mol比为1:1或1:0.7:0.3。

2.按照权利要求1所述的耐电晕聚酰亚胺膜的制备工艺，包括以下步骤：

（1）将A组份的原料通过搅拌预分散，随后采用高压分散技术，使纳米填料分散后恢复到原始的纳米粒径，使树脂分散后达到均质，从而使树脂均匀地包裹在纳米填料表面产生交联，阻止纳米颗粒在后续加工中再次发生团聚；

（2）将B组份的二种或三种反应单体在极性溶剂中反应，通过控制粘度达到控制其分子量，制备成低分子（低粘度）聚酰胺酸溶液；

（3）将A组份投入B组份中，通过强力机械搅拌，使混合体系中的纳米填料分布均匀而稳定，补充投入均苯四酸二酐进行原位聚合反应，控制反应温度≤65℃，制备成耐电晕高分子聚酰胺酸溶液，重均分子量为3×10⁴~1×10⁵；

（4）根据耐电晕高分子聚酰胺酸溶液的特性，采用流涎工艺于130~175℃下制备成膜，并采用380~450℃高温亚胺化工艺制成耐电晕聚酰亚胺膜。

3.根据权利要求2所述的耐电晕聚酰亚胺膜工艺制成的聚酰亚胺膜厚度为0.025mm，耐高频脉冲特性＞200h。