[发明专利]C-3取代的-9-脱氧-9A-氮杂-9A-高红霉素A衍生物

权利要求书

1.一种具有如下通式(Ⅰ)所示的化合物：

其中，R₁是H，羟基或甲氧基；R₂是羟基；R₃是以杂原子取代或未取代的有机物，且所述杂原子为卤素、N、O和S中的一种或多种；R₄是H、苄氧羰基、苯甲酰基或乙酰基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，R₃为-CH₂R₂₀，其中R₂₀为含C、H、O、N、S和卤素中至少一种原子的有机或无机基团。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于，R₃为-CH₂NHR₃₀，其中R₃₀为含C、H、O、N、S和卤素中至少一种原子的有机或无机基团。

4.根据权利要求3所述的化合物，其特征在于，R₃₀选自H，氨基，甲基，乙基，烯丙基，正丁基，异丁基，2-甲氧乙基，环戊基，3-甲氧丙基，3-乙氧丙基，正丙基，异丙基，2-羟基乙基，环丙基，2,2,2-三氟乙基，2-丙炔基，仲丁基，叔丁基，正已基，乙烯基，乙炔基，1-甲基-1-丙烯基，3-甲氧基-1-丙炔基，3-二甲基氨基-1-丙炔基，3-羟基-1-丙炔基，3-羟基-1-丙烯基，3-羟丙基，3-甲氧基-1-丙烯基，3-甲氧基丙基，1-丙炔基，叠氮基甲基，甲酰基甲基，6-氰基-1-戊炔基，3-二甲基氨基-1-丙烯基，或3-二甲基氨基丙基。

5.根据权利要求3所述的化合物，其特征在于，R₃为-CH₂NH-(CH₂)_mR₄₀，其中m是1-4的整数，R₄₀为含C、H、O、N、S和卤素中至少一种原子的有机或无机基团。

6.根据权利要求5所述的化合物，其特征在于，R₄₀选自H，含有或不含有杂原子的有机基团，所述杂原子为卤素、N、O或S。

7.根据权利要求6所述的化合物，其特征在于，R₄₀选自含有或不含有杂原子的C₁-C₂₀烷基，C₁-C₆烷氧基，C₂-C₆链烯基，C₂-C₆炔基，和5-20元芳基或杂芳基，且前述基团可任选地连接有含碳的取代基团。

8.根据权利要求5所述的化合物，其特征在于，R₄₀为含有或不含有取代基的C₆-C₁₀芳基或C₅-C₂₀的杂芳基，所述杂芳基中杂原子为卤素、N、O或S。 

9.根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于，R₃为-CH₂SR₅₀，其中R₅₀为以杂原子取代或未取代的有机物，所述杂原子为卤素、N、O或S。

10.根据权利要求9所述的化合物，其特征在于，其中R₅₀为选自含有或不含有杂原子的C₁-C₂₀烷基，C₁-C₆烷氧基，C₂-C₆链烯基，C₂-C₆炔基，和5-20元芳基或杂芳基，且前述基团可任选地连接有含碳的取代基团。

11.根据权利要求10所述的化合物，其特征在于，其中R₅₀为甲基，乙基，烯丙基，正丁基，异丁基，2-甲氧乙基，环戊基，3-甲氧丙基，3-乙氧丙基，正丙基，异丙基，2-羟基乙基，环丙基，仲丁基，叔丁基，或正已基。

12.根据权利要求1~11中任意一项所述的化合物，其特征在于，所述R₁是羟基，R₄是H。