[发明专利]一种用于提取半导体纳米结构特征尺寸的方法

权利要求书

1. 一种用于提取半导体纳米结构特征尺寸的方法，其特征在于，该方法包括下述过程：

第1步 确定每一个待提取参数的取值范围，生成子光谱数据库；利用训练光谱和支持向量机训练网络进行支持向量机训练；

第2步 利用训练完毕的支持向量机对测量光谱进行映射，映射到一个对应的子光谱数据库；

第3步 利用搜索算法对所述对应的子光谱数据库展开搜索，找出结果最优的一条仿真光谱，该仿真光谱对应的仿真结构参数值即为待提取的纳米结构特征尺寸值。

2.根据权利要求1所述的用于提取半导体纳米结构特征尺寸的方法，其特征在于，第1步中，子光谱数据库的获取方法：

（1.1）将每一个待提取参数的取值范围划分成多个子取值范围；

（1.2）在每一个待提取参数对应的多个子取值范围中选取一个子取值范围，生成一个子参数取值组合；

（1.3）对每一个子参数取值组合中的子参数取值范围离散取多组值，对离散值利用正向光学特性建模程序生成一条对应的仿真光谱，每一个子参数取值组合中的所有离散点对应的仿真光谱即为一个子光谱数据库。

3.根据权利要求1所述的用于提取半导体纳米结构特征尺寸的方法，其特征在于，第1步中，训练光谱的获取方法：

每一个待提取的参数对应一个支持向量机，每一个待提取参数的取值范围被划分成多少个子区间，则对应的支持向量机输出端包含多少个类，每一个类由一个唯一的数字标示，用来代表一个子区间范围；每一个类对应着一个训练光谱集，一个训练光谱集与一个子区间对应；通过对某一个子区间中随机离散取多个值，对每一个离散取值点利用正向光学特性建模程序仿真出一条仿真光谱，这些仿真光谱组成的集合即为一个训练光谱集；一个支持向量机所有输出类对应的训练光谱集所包含的总的训练光谱，即为该支持向量机所需要的训练光谱。

4.根据权利要求1所述的用于提取半导体纳米结构特征尺寸的方法，其特征在于，第2步中，利用训练完毕的支持向量机对测量光谱进行映射，映射到一个对应的子光谱数据库的过程为：

每一个待提取参数对应着的一个支持向量机的输出端具有多个类，每一个类分别与待提取参数取值范围所划分的一个子区间对应；通过将测量光谱输入到某一个支持向量机，支持向量机的输出为一个类，此输出类表示该支持向量机对应着的某一个待提取取值范围的一个子区间；通过每一个待提取参数对应的支持向量机的映射，则能够确定每一个待提取参数的一个子区间，这些被确定的所有子区间唯一确定一个子光谱数据库。

5.根据权利要求1所述的用于提取半导体纳米结构特征尺寸的方法，其特征在于，第3步中，找出结果最优的一条仿真光谱的方法为：

每一个子光谱数据库中的所有光谱被整理成一个矩阵形式，矩阵的每一行为一条仿真光谱，此仿真光谱与一组结构参数值唯一对应；按照从上到下的原则，将矩阵中的每一条仿真光谱与测量光谱按照某一评价函数计算得到一个评价函数值；利用搜索算法或者排序算法找到所有评价函数值中最小的一个，该最小评价函数值对应的一条仿真光谱即为最优的仿真光谱。