[发明专利]基片装载装置和PECVD设备有效
申请号: | 201210171062.X | 申请日: | 2012-05-29 |
公开(公告)号: | CN103451630A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 张孟湜 | 申请(专利权)人: | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/44 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装载 装置 pecvd 设备 | ||
1.一种基片装载装置,包括基片上料组件,其特征在于,所述基片上料组件包括:
至少两个料盒,所述至少两个料盒用于在其中容纳基片;
至少三条传送带,所述至少三条传送带平行地水平设置且沿着所述传输带的传输方向同步运动用于将至少两个料盒从所述传送带的第一端同步传送至第二端;
上料台,所述上料台与所述至少三条传送带的第二端对应设置以接纳所述至少三条传送带送来的至少两个料盒;
限位组件,所述限位组件设在所述上料台的第二端上,当所述至少两个料盒到达所述限位组件处时所述至少三条传送带同步停止;以及
取片机械手,所述取片机械手用于从所述至少两个料盒内中同时对应地取出至少两个基片放置到载板上;
载片装置,所述载片装置包括升起气缸和设在所述升起气缸上方的至少两个托盘,其中所述基片上料组件中的取片机械手将取到的至少两个基片一一对应地放置到所述至少两个托盘上;
载板,载板与所述上料台并列设置;以及
上料机械手,所述上料机械手设在所述载板和所述载片装置之间以将所述托盘上的至少两个基片取出并放置到所述载板上。
2.根据权利要求1所述的基片装载装置,其特征在于,所述限位组件包括:
至少两块挡板,所述至少两块挡板与所述至少两个料盒的位置在所述传输方向上对应以止挡所述至少两个料盒;和
限位开关,其中当所述至少两个挡板止挡住所述至少两个料盒时,所述限位开关动作以控制所述至少三个传送带同步停止。
3.根据权利要求1所述的基片装载装置,其特征在于,所述至少三条传送带包括:
第一和第二传送带,所述第一和第二传输带平行设置;
第三传送带,所述第三传送带位于所述第一和第二传送带之间,其中所述第三传送带的宽度大于所述第一和第二传送带的宽度。
4.根据权利要求3所述的基片装载装置,其特征在于,所述第三传送带的数量为一条。
5.根据权利要求3所述的基片装载装置,其特征在于,所述第一和第二传送带的宽度相等。
6.根据权利要求1所述的基片装载装置,其特征在于,所述取片机械手包括:
支架;
手臂,所述手臂的一端与所述支架相连;以及
至少两个基片吸附件,所述至少两个基片吸附件设在所述手臂上且沿所述手臂的长度方向间隔开,以便从所述至少两个料盒内同时吸附出至少两个基片。
7.根据权利要求6所述的基片装载装置,其特征在于,所述基片吸附件为吸盘。
8.根据权利要求1所述的基片装载装置,其特征在于,所述上料机械手包括上料手臂和至少两个上料吸盘,所述至少两个上料吸盘设在所述上料手臂上且沿所述手臂的长度方向间隔开以便从所述至少两个托盘上同时吸附出至少两个基片放置到所述载板上。
9.根据权利要求8所述的基片装载装置,其特征在于,所述上料机械手与所述取片机械手相连。
10.一种PECVD设备,其特征在于,包括根据权利要求1-9中任一项所述的基片装载装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的