[发明专利]一种带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺

权利要求书

1.一种带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：

（1）硅铝玻璃分切成母材尺寸并磨边倒角；

（2）在硅铝玻璃的OGS产品区两面印制保护膜；

（3）采用真空镀膜方式在硅铝玻璃两面镀制阻挡保护层；

（4）撕下保护膜，并对硅铝玻璃表面进行化学钢化工序；

（5）按产品设计在OGS产品区涂布有色图案层；

（6）按产品设计在OGS产品区进行单面结构的电容触控屏制作；

（7）按产品设计在OGS产品区涂布一层有色有机涂料层；

（8）在镀膜区进行切割，成型工作。

2.根据权利要求1所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：所述的（1）中选用玻璃厚度为0.4~3.0mm。

3.根据权利要求1所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：所述的（2）中保护膜采用丝印法印制。

4.根据权利要求1所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：所述的（3）中阻挡保护层为SiO₂、Al₂O₃或ITO膜，并采用磁控溅射或电子枪蒸发方式镀膜，镀膜厚度为0.25um-40um。

5.根据权利要求1所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：所述的（4）中化学钢化工序采用400-500度高温处理4-6小时。

6.根据权利要求1所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：所述的（5）和（7）中采用曝光显影或丝网印刷的方式在玻璃一侧上涂布一层5-20微米厚有色涂层，所述的涂布图案层与有机涂料层采用相应的有机着色材料。

7.根据权利要求1所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：所述的（6）电容触控屏制作按以下步骤进行：

a、采用真空磁控溅射方法镀制ITO膜；

b、采用曝光、蚀刻方法制作ITO图案；

c、然后在ITO图形上采用曝光显影方法制作一层有机透明材料图；

d、将涂布有机透明材料图的玻璃下表面放到真空磁控溅射镀膜机中镀一层导电材料，然后采用曝光、蚀刻方法将这层导电材料制作成所需图形；

e、在导电材料图形上再涂布一层有机透明材料图形。

8.根据权利要求1所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：所述的（8）中切割方式采用CNC铣削、激光切割或化学腐蚀方法切割。

9.根据权利要求1-7中任一项所述的带电容式触摸功能的盖板硅铝玻璃的生产工艺，其特征在于：切割后的硅铝玻璃边缘做强化处理。