[发明专利]基板冷热处理装置有效

专利信息
申请号: 201210164107.0 申请日: 2012-05-24
公开(公告)号: CN103426793A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 梁晓东 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 冷热 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种基板冷热处理装置,其特征在于:包括承载基板(W)的支撑板(1),该支撑板(1)内埋设有电阻丝(4)并开有供冷却流体流过的冷却槽(3);所述电阻丝(4)与电源连接,为基板(W)加热。

2.按权利要求1所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述冷却槽(3)上方的支撑板(1)内开有导线槽(2),所述电阻丝(4)容置于该导线槽(2)内;所述导线槽(2)与冷却槽(3)相对独立。

3.按权利要求2所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述支撑板(1)为导热性能好的金属板,分为上层板(13)、中层板(14)、下层板(15)三层,所述导线槽(2)设在上层板(13)的下表面,俯视呈螺旋状;所述冷却槽(3)设在下层板(15)的上表面,俯视呈“S”型;所述中层板(14)位于导线槽(2)与冷却槽(3)之间。

4.按权利要求2或3所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述支撑板(1)的中间开有通孔,所述电阻丝(4)的一端由该通孔向下引出、与电源连接。

5.按权利要求1所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述支撑板(1)的上表面均布有多个的支撑部(5),基板(W)支撑在该支撑部(5)上,与所述支撑板(1)的上表面留有间隙。

6.按权利要求5所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述支撑部(5)俯视呈环状,上部为锥台、下部为底座,所述基板(W)的边缘靠在所述锥台的内侧、并由底座支撑;所述底座的厚度与基板(W)和支撑板(1)上表面之间的间距相等。

7.按权利要求1所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述支撑板(1)沿高度方向均布有多个贯通孔(7),每个贯通孔(7)内均插设有支撑杆(6),所述支撑杆(6)的下端连接在升降机构上,顶端突出于支撑板(1)的上表面。

8.按权利要求7所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述升降机构包括气缸(10)及联动杆(12),其中联动杆(12)的一端与气缸(10)的活塞相连,另一端与所述支撑杆(6)的下端连接;在联动杆(12)的下方设有挡板(16),该挡板(16)上放置有调整基板(W)与支撑板(1)上表面之间间距的垫片(17)。

9.按权利要求7所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述贯通孔(7)为三个,三个贯通孔(7)的中心线之间的连线为正三角形,该正三角形的中心即为支撑板(1)的中心。

10.按权利要求7所述的基板冷热处理装置,其特征在于:所述支撑杆(6)的顶端为球面。

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