[发明专利]提高硅晶体电池片转换效率的方法有效

专利信息
申请号: 201210141799.7 申请日: 2012-05-08
公开(公告)号: CN102709181A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 刘振淮;熊震;付少永;张驰 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: H01L21/324 分类号: H01L21/324;H01L31/18
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 王凌霄
地址: 213031 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 提高 晶体 电池 转换 效率 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种提高硅晶体电池片转换效率的方法。

背景技术

在基于硅晶体的光伏领域,高质量的硅晶体对电池高效率的达成至关重要。影响硅晶体质量的关键因素包括晶体中的晶界、位错和杂质。硅晶体中金属杂质的掺入对电池效率的降低作用十分显著。比如,研究表明,当铁含量从~1ppbw增加到~200ppbw时,电池效率降低~40%。

铁作为硅晶体中最常见的一种金属杂质,在硅晶体中以沉淀铁(FeSi2、Fe2O3或其它含铁化合物)、间隙铁(interstitial Fe,简称Fei)或铁硼复合体(简称Fe-B对)的形式存在。无论铁以上述何种形态存在,都为作为少子复合中心而降低少子寿命,影响电池效率。铸锭过程中,长晶结束时,铁主要是以Fei的形式存在硅晶体中。随着温度的降低,铁在硅晶体中的溶解度降低,过饱和的间隙铁会以化合物的形式在位错和晶界等缺陷处形成沉淀。由于室温下铁在硅晶体中的溶解度很低,在铸锭硅晶体中,间隙铁的含量低于总铁含量的10%,绝大多数的铁仍是以沉淀态的形式存在硅晶体中。

在当前的电池制备工艺中,需要在硅片正面扩散磷形成n型区,在丝网印刷电极时,需要在背面印刷铝浆并烧结形成铝背场,磷扩散形成的n型区和铝背场都能吸除绝大部分的间隙铁,大大降低了硅晶体中的少子复合中心,有益于电池效率的提高。Fe-B间的键合作用较弱,在高于190℃时即会被打散形成Fei,同样也会在磷扩散和铝背场烧结过程中转化成间隙铁而得以去除。上述磷扩散和铝背场烧结温度都低于850℃,但是,沉淀铁则在850℃的热处理下很稳定,不能像间隙铁那样被吸除。

专利US2010/0212738A1虽然也提出了在磷扩散阶段通过高温热处理(>925℃)来加速沉淀铁向间隙铁的转换,有利于少子寿命的提高。但上述发明存在重要缺陷,热处理是在磷扩散阶段来完成的,如发明中所述,使方阻从100ohmcm2降低到10ohmcm2,这个是为了增大磷的吸杂效果而刻意进行磷的重扩散,对最后电池的效率是极为不利的。虽然表面上增加了磷扩散硅片的少子寿命,但由于磷扩散浓度的增加,表面复合速率也会大幅度增加,从而会导致更低的电池效率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是:提高硅晶体电池片的转换效率。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种提高硅晶体电池片转换效率的方法,硅片在正式制备电池前进行如下的热处理:在氮气、氩气、氦气的一种或几种惰性混合气体气氛中,将硅片以20~200℃/s的速率快速加热至900℃以上,热处理1s~30min,然后以30℃~80℃/s的速率冷却至室温,将硅晶体中沉淀铁转换为间隙铁;将上述热处理后的硅片制备电池片。

优化地,将硅片以20~50℃/s的速率快速加热至950℃以上,热处理10s~20s,然后以50~70℃/s的速率冷却至室温。

硅片快速加热方法包括微波加热、红外加热或电阻加热,加热装置为带式炉或腔式炉。

硅片包含铸锭多晶硅片、铸锭单晶硅片、CZ提拉单晶硅片。

本发明的有益效果是:在硅片处理阶段通过快速的热处理工艺,将硅片中10%~80%的沉淀铁转换成间隙铁,沉淀铁的含量得到了大幅度的降低,处理后的硅片制备成电池片后,电池片的效率的绝对值提高了0.5%~2%。

具体实施方式

实施例1:取2万片尺寸为156×156mm,厚度为180μm的P型铸锭多晶片,取其中的1万片通过传送带以5s/片的速率在炉腔里步进式传输,炉腔中心配有微波加热炉。每片硅片在微波场下被加热3s,加热温度为950℃,3s结束后,撤去微波场,被加热的硅片快速冷却,在同时往后继续传输。每张硅片都按上述热处理方式进行处理。热处理后和没有热处理的硅片分批依次通过前清洗、制绒、扩散、后清洗、钝化、丝网印刷和烧结的电池制备工序。结果表明:热处理后电池片的平均电池效率比没有热处理的电池片高0.15%(绝对值)。

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