[发明专利]液晶介质组合物、使用其的液晶显示器及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术，尤其涉及一种液晶介质组合物、使用其的液晶显示器及其制作方法。

背景技术

在LCD行业中，近年来发展起来的PSVA(Polymer stabilized vertical alignment)技术相对传统的TN/STN技术有可视角宽、对比高、响应快等诸多优点，而相对其他的VA技术，如MVA、PVA技术，在穿透率、制程简便性上也具有相当的优势，所以PSVA已成为现今TFT-LCD行业的一大主流技术。

PSVA的关键制程中：采用负型液晶材料，未加电场时液晶分子垂直于基板表面排列，液晶材料中添加了一定量在紫外光照射下可发生聚合反应的单体，简称RM。在基板上滴加液晶进行组合之后，对面板施加合适频率、波形、电压的信号，使液晶分子沿预先设定的方向倾倒，同时采用紫外光照射面板，使RM聚合形成高分子沉积于面板内的两个基板表面，此即为聚合物bump，可以使液晶分子在未加电压的情况下具有一定的预倾角，由此来加快液晶分子的响应速度。相对摩擦(Rubbing)只能单一方向配向，这个方法的好处是可以在面板内实现不同区域多角度配向(产生预倾角)。

根据美国专利US7169449等的揭示，使用在PSVA技术中的RM(Reactive Mesogene反应性介晶体)所含的光反应性基团通常为甲基丙烯酸酯基、丙烯酸酯基、乙烯基、乙烯氧基、环氧基等，其中最常用的是甲基丙烯酸酯基。但是直接使用UV光照射使这些RM反应存在一些问题：能使含上述此类基团的RM发生光聚合反应的主要波长范围为200-300nm，波长超过300nm的紫外光虽然也可使RM发生反应，但效率很低，速度非常慢，不具备良好的量产性，因此必须采用波长在300nm以下的光源来照射面板，使RM发生反应。然而使用300nm以下的光源会给面板的制作带来很多缺点和难度：首先，300nm以下的紫外光具有较高的能量，会使配向层材料聚酰亚胺(Polyimide)以及液晶分子发生降价破坏，造成面板的VHR(Voltage holding ratio电压保持率)降低、Image sticking(影响残留)变严重、RA(Reliability analysis可靠性分析)结果变差等；其次，用来制作TFT-LCD基板的玻璃通常对300nm以下的紫外光具有一定的吸收作用，会使光源的照射效率下降；更为致命的是液晶材料本身对300nm以下的紫外光具有强吸收作用，波长在300nm以下的紫外光完全不能穿过液晶材料，也就是说来自光源的绝大部分紫外光被液晶材料吸收(起破坏作用)，只有极少部分被RM吸收发生聚合反应，这部分发生在入光侧极浅的位置，这又导致入光侧与背光侧RM反应的不均匀性，使面板的配向效果下降。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种液晶介质组合物，其添加有对波长300-380nm的紫外光有较强的吸收作用的敏化剂，通过该敏化剂使可聚合单体反应波长向长波长移动，聚合反应效率高且形成聚合物均匀性好。

本发明的另一目的在于，提供一种液晶显示器及其制作方法，通过上述液晶介质组合物可采用波长300-380nm的紫外光照射，避开了液晶材料的吸收波段，降低紫外光对液晶材料及配向材料PI(聚酰亚胺)的破坏作用，且提高可聚合单体的聚合反应效率及均匀性，提高面板的配向效果，从而可提高面板的品质和寿命。

为实现上述目的，本发明提供一种液晶介质组合物，其包括组分：液晶材料、可聚合单体、稳定剂及敏化剂，所述敏化剂对波长在300-380nm范围的紫外光具有强吸收性，它的结构由多个苯环连接构成的稠环芳烃及连接在芳环上的取代基构成。

所述敏化剂为以下分子结构式所示中的一种或多种：

式I

式II

式III

式IV

式V

式VI

式VII

式VIII

式IX