[发明专利]一种纳米二氧化硅的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210121843.8 申请日: 2012-04-19
公开(公告)号: CN102633266A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 章浩龙 申请(专利权)人: 浙江宇达化工有限公司
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 312300*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 二氧化硅 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种制取纳米二氧化硅的方法,属于化工新材料技术领域。

背景技术

纳米二氧化硅(nm-SiO2)是颗粒尺寸在纳米级(一般为1~100nm)的无定形二氧化硅产品,外观为白色粉末,是一种无毒、无味、无污染的非金属氧化物材料,微结构为三维网状的准颗粒球形结构,因其具有的小尺寸、大比表面积、高表面能、与聚合物接触的介面能高等特性,以及优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性,在许多领域有着十分广泛的应用,特别是在橡胶、特种涂料、纺织行业、树脂基复合材料改性等应用领域都越来越显现其不可取代的作用。

目前制取nm-SiO2的方法主要有干法和湿法二种,干法主要指气相法和电弧法,湿法可分为沉淀法和溶液-凝胶法。用干法和以硅酸乙酯为前驱体的溶液-凝胶法由于存在原材料价格昂贵、制备周期长等弊端,用廉价原材料制备nm-SiO2的方法已越来越多的引起人们的重视。

2003年6月出版的南昌大学学报(工科版)第25卷第2期发表了郑典模、苏学军的文章《化学沉淀法制备纳米SiO2的研究》,介绍了以廉价的水玻璃和硫酸为原料,通过控制溶液的PH值,采用化学沉淀的方法制取纳米SiO2微粉的方法,该工艺的沉淀反应为:

Na2O·nSiO2+H2SO4+(nx-1)H2O→nSiO2·xH2O↓+Na2SO4

除生成SiO2外,反应还生成了Na2SO4,在洗涤SiO2沉淀时会产大量含盐(Na2SO4)含酸(残余H2SO4)废水,由于浓度及工艺费用等方面的因素,这些含盐含酸废水的回收成本较高,回收物价值又不大,因此不可避免的会排放大量废水。

因此,上述工艺虽然解决了用廉价材料替代昂贵原材料的问题,但带来了需消耗大量无机酸,产生大量含盐含酸废水无法循环或回收利用,同时引起环境污染等问题。

发明内容

针对上述问题,本发明拟解决的问题是提供一种除硅源(可溶性硅酸盐)外,其他化学品能循环使用的制取纳米二氧化硅的方法,以进一步降低纳米二氧化硅的制造成本,同时少消耗资源,减少排放,尽量减少对环境的损害。

为达到上述目的,本发明采用以下技术方案:一种纳米二氧化硅的制备方法,它是以可溶性硅酸盐M2O·nSiO2和NH4HCO3为原料,以M2O·nSiO2和NH4HCO3的摩尔比为1∶1.0~1.15进行反应,沉淀出水合SiO2,经过滤分去滤液,滤饼再经洗涤、用有机溶剂置换、干燥得到纳米二氧化硅产品;所述滤液中主要含有碳酸盐M2CO3、NH3,还有少量的NH4HCO3;所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2、碳酸盐M2CO3中的M为碱金属元素Na或K,所述可溶性硅酸盐M2O·nSiO2中的n为其模数,n值在2.2~3.7。

所述干燥后还进行了粉碎。所述过滤是采用真空过滤或压滤机过滤。所述的洗涤是用水洗涤滤饼,以除去滤饼中所含的电解质离子。所述的有机溶剂置换是用有机溶剂洗涤经水洗涤后的滤饼,或用有机溶剂共沸蒸馏除去滤饼所含的水。

所述滤液中通入CO2,使滤液中的碳酸盐M2CO3反应生成碳酸氢盐MHCO3,NH3反应生成NH4HCO3,MHCO3和NH4HCO3的混合溶液循环作为制备纳米二氧化硅的反应原料。

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