[发明专利]一种电极结构及其制作方法无效
| 申请号： | 201210106832.2 | 申请日： | 2012-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN102623282A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 叶飞 | 申请（专利权）人： | 安徽鑫昊等离子显示器件有限公司 |
| 主分类号： | H01J17/04 | 分类号： | H01J17/04;H01J9/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 230011 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 电极 结构 及其 制作方法 | ||
1.一种电极结构，其特征在于，包括：
总线电极，所述总线电极设置在一基板表面上；
透明电极，所述透明电极设置在所述基板和总线电极表面上，且所述透明电极包覆住总线电极。
2.根据权利要求1所述电极结构，其特征在于，所述总线电极为镉铜镉电极。
3.根据权利要求1所述电极结构，其特征在于，所述总线电极为钼铝钼电极。
4.根据权利要求1所述电极结构，其特征在于，所述透明电极为氧化铟锡电极。
5.根据权利要求1所述电极结构，其特征在于，所述透明电极为氧化铟锌电极。
6.根据权利要求1所述电极结构，其特征在于，所述透明电极为石墨烯电极。
7.一种权利要求1-6所述电极结构的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基板；
在所述基板表面淀积金属电极层，通过光刻工艺在所述金属电极层上形成总线电极；
在所述总线电极和基板表面上淀积透明电极层，通过光刻工艺在所述透明电极层上形成透明电极，所述透明电极包覆住总线电极。
8.一种等离子显示屏，其特征在于，包括：第一基板，所述第一基板包括一电极结构，且所述电极结构为权利要求1-6所述电极结构；
前介质层，所述前介质层设置在所述第一基板表面上；
第二基板，所述第二基板包括地址电极，且所述第二基板具有地址电极的一面和第一基板具有前介质层的一面相对设置；
后介质层，所述后介质层设置在所述第二基板与第一基板相对的表面上；障壁，所述障壁设置在所述后介质层表面上。
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