[发明专利]定位系统

权利要求书

1.一种定位系统，其用以定位至少一用于承载多个发光单元的基板及至少一对应于上述至少一基板的遮罩，其特征在于，该定位系统包括：

一第一工作机台，其包括至少一可移动单元，其中上述至少一可移动单元包括至少两个可移动定位件及至少两个可移动支撑件；

一第二工作机台，其相距该第一工作机台一预定距离；以及

一承载座，其定位于该第一工作机台与该第二工作机台两者中的其中一个上，其中该承载座具有至少一固定式定位件，且上述至少一基板通过上述至少一固定式定位件以定位于该承载座上；

其中，当该承载座被定位于该第一工作机台上时，每一个可移动定位件的末端部与每一个可移动支撑件的末端部同时被设置于一用于使上述至少一遮罩定位于上述至少一基板上方的第一位置与一用于使上述至少一遮罩通过上述至少一固定式定位件以定位于上述至少一基板上的第二位置两者中的其中之一。

2.如权利要求1所述的定位系统，其特征在于，上述至少一基板具有至少一对应于上述至少一固定式定位件的基板定位孔，上述至少一遮罩具有一对应于上述至少一基板的罩体、多个贯穿该罩体的喷涂开口、至少两个贯穿该罩体且分别对应于上述至少两个可移动定位件的第一遮罩定位孔、及至少一贯穿该罩体且对应于上述至少一固定式定位件的第二遮罩定位孔，且上述至少一第二遮罩定位孔对应于上述至少一基板定位孔。

3.如权利要求2所述的定位系统，其特征在于，当每一个可移动定位件的末端部与每一个可移动支撑件的末端部同时被设置于该第一位置时，每一个可移动定位件具有一穿过该承载座以向上顶抵该罩体底面的可移动定位本体及一从该可移动定位本体向上延伸且穿过相对应的第一遮罩定位孔的定位柱，且每一个可移动支撑件具有一穿过该承载座以向上顶抵该罩体底面的可移动支撑本体。

4.如权利要求2所述的定位系统，其特征在于，当每一个可移动定位件的末端部与每一个可移动支撑件的末端部同时被设置于该第二位置时，每一个可移动定位件的末端部与每一个可移动支撑件的末端部皆同时脱离上述至少一遮罩，且上述至少一固定式定位件依序穿过上述至少一基板定位孔与上述至少一第二遮罩定位孔。

5.如权利要求2所述的定位系统，其特征在于，该定位系统还进一步包括：一上压板，其包括一可移动地设置于该承载座上以用于压住上述至少一遮罩的外围边缘的板体及至少一贯穿该板体以用于裸露上述多个喷涂开口的窗口。

6.如权利要求1所述的定位系统，其特征在于，该第二工作机台包括一用于产生磁性吸引力的电磁力产生模块及一用于开启或关闭该电磁力产生模块的电磁力控制模块。

7.如权利要求6所述的定位系统，其特征在于，当该承载座被定位于该第二工作机台上时，通过该电磁力产生模块所产生的磁性吸引力，以使得上述至少一遮罩被吸附在上述至少一基板上。

8.一种定位系统，其用以定位至少一用于承载多个发光单元的基板及至少一对应于上述至少一基板的遮罩，其特征在于，该定位系统包括：

一第一工作机台；

一第二工作机台，其相距该第一工作机台一预定距离；以及

一承载座，其定位于该第一工作机台与该第二工作机台两者中的其中一个上，其中该承载座具有至少一固定式定位件，上述至少一基板通过上述至少一固定式定位件以定位于该承载座上，且上述至少一遮罩通过上述至少一固定式定位件以定位于上述至少一基板上；

其中，上述至少一基板具有至少一对应于上述至少一固定式定位件的基板定位孔，上述至少一遮罩具有至少一对应于上述至少一基板定位孔的遮罩定位孔，且上述至少一固定式定位件依序穿过上述至少一基板定位孔与上述至少一遮罩定位孔。

9.如权利要求8所述的定位系统，其特征在于，上述至少一遮罩具有一对应于上述至少一基板的罩体，且上述至少两个遮罩定位孔贯穿该罩体。

10.如权利要求9所述的定位系统，其特征在于，该定位系统还进一步包括：一上压板，其包括一可移动地设置于该承载座上以用于压住上述至少一遮罩的外围边缘的板体及至少一贯穿该板体以用于裸露上述多个喷涂开口的窗口。