[发明专利]放射线固化型喷墨用油墨、记录物及喷墨记录方法有效

专利信息
申请号: 201210018192.X 申请日: 2012-01-19
公开(公告)号: CN102604475A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 伊东淳;中根博纪 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: C09D11/10 分类号: C09D11/10;B41M5/00;H01L21/67;H01L23/544
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 苗堃;赵曦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 放射线 固化 喷墨 油墨 记录 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及放射线固化型喷墨用油墨、记录物、及喷墨记录方法。

背景技术

以往,作为基于图像数据信号在被记录介质上形成图像的记录方法,利用了各种方式。其中,喷墨方式由于以廉价的装置、仅在需要的图像部喷出油墨并在被记录介质上直接形成图像,因此能高效地使用油墨,运行成本低。

近年,为了在被记录介质的表面形成耐水性、耐溶剂性、以及耐擦性等良好的图像,在喷墨方式的记录方法中,一直在使用照射放射线而固化的放射线固化型喷墨用油墨。

另一方面,近年,通常将半导体芯片(集成电路(IC)芯片)等封装而成的电子部件(IC封装)用于各种设备,在这样的电子部件上施加印刷文字、符号、标志等的标记。因此,需要施加适于电子部件的标记的印刷技术。

例如,专利文献1中公开了向以喷墨方式附着在IC芯片等电子部件上的油墨照射紫外线,从而使油墨定影在该电子部件上的标记方法。专利文献2中公开了在安装有多个裸芯片的基板的周缘部的移除基板部以喷墨方式印制批号等的标记方法。

另外,例如,专利文献3中公开了一种印刷电路布线板制造中的喷墨记录方法,该方法将照射的紫外线的累积光量和照度设定在特定范围,以使得含有二氧化钛的油墨以最大油墨膜厚10~30μm进行固化。专利文献4中公开了一种喷墨印刷方法,该方法包括:从喷墨打印机将含有着色剂、光聚合引发剂和环氧试剂的紫外线固化性油墨喷射到印刷电路基板上来提供标记的工序、和在至少2秒钟后使该标记暴露于紫外线的工序。

另外,例如,专利文献5中公开了在IC封装上进行涂布,并在其上施加标记的模具IC封装。专利文献6中公开了在具有多个IC芯片的晶片中,仅在不良IC芯片的位置进行标记的方法。

专利文献1:日本特开平11-274335号公报

专利文献2:日本特开2000-332376号公报

专利文献3:日本特开2006-21479号公报

专利文献4:日本特表2007-527459号公报

专利文献5:日本实用新型登记第2539839号说明书

专利文献6:日本特开2003-273172号公报

发明内容

但是,专利文献1~6中公开的技术均是耐擦性、密合性和耐醇性中的至少任一项较差。因此,产生现有的标记方法难以应用于精密的电子部件这种问题。

因此,本发明的目的之一是提供耐擦性、密合性和耐醇性优异的放射线固化型喷墨用油墨、以及使用该油墨的记录物和喷墨记录方法。

本发明人等为了解决上述课题进行了深入研究。由于通过现有的标记方法来对电子部件施加标记时,记录于电子部件的油墨的固化物耐擦性、密合性、及耐醇性中的至少任一项较差,因此无法耐受实际应用。

在这样的状况下,本发明人等认为使固化的油墨中含有N-乙烯基己内酰胺同时使其含量为规定量,并且进一步在规定条件下对上述固化物进行加热,结果能够形成耐擦性、密合性和耐醇性极其优异的油墨,且能够获得充分耐受实际应用的对电子部件进行标记的方法。

像这样,发现了含有规定量的N-乙烯基己内酰胺、固化后在规定条件下进行加热处理而成的放射线固化型喷墨用油墨(以下也简称为“油墨”)能够在电子部件的封装基材或半导体基材上进行适宜地记录(标记),并且,固化物的耐擦性和耐醇性、以及固化物对上述基材的密合性中的任一项均优异,从而完成了本发明。

即,第1本发明如下。

[1]一种放射线固化型喷墨用油墨,其特征在于,相对于该油墨的总质量,含有5~20质量%的N-乙烯基己内酰胺,该油墨被用于在作为被记录介质的封装基材或半导体基材上进行记录,并且被附着在该封装基材或该半导体基材上,被照射放射线,并在150~200℃被加热处理。

[2]根据[1]所述的放射线固化型喷墨用油墨,其中,相对于该油墨的总质量,进一步含有5~20质量%的多官能丙烯酸酯。

[3]根据[2]所述的放射线固化型喷墨用油墨,其中,所述多官能丙烯酸酯是具有季戊四醇骨架的多官能丙烯酸酯。

[4]根据[1]~[3]中任一项所述的放射线固化型喷墨用油墨,其中,所述加热处理是在150~200℃加热10~75分钟的处理。

[5]根据[1]~[4]中任一项所述的放射线固化型喷墨用油墨,其中,被照射的所述放射线的发光峰值波长为350~405nm的范围,累积照射量为100mJ/cm2以上。

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