[发明专利]实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件

权利要求书

1.一种实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，该连接器件设置在等离子体刻蚀腔体内，由导电材料构成，该连接器件的一端固定并电连接到反应腔体中的阴极，该阴极连接到射频电源，该连接器件的另一端固定到接地的反应腔内壁，该连接器件和反应腔内壁构成一个电接触面，其特征在于，所述的连接器件包含一个垫圈槽（1）、设置在垫圈槽（1）内的衬套（102）、以及设置在衬套（102）内并与衬套（102）弹性接触的具有压接头的接地圈（101），具有压接头的接地圈（101）与衬套（102）之间的弹性接触，保证了接触面能够很好地接地，从而保证RF的传输更加稳定，获得稳定的RF分布。

2.如权利要求1所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的具有压接头的接地圈（101）为销状，其包含压接头（1011）和顶部（1012）。

3.如权利要求2所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的具有压接头的接地圈（101）的压接头（1011）部分设置在衬套（102）内。

4.如权利要求1所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的衬套（102）具有弹性。

5.如权利要求2所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的衬套（102）采用金属银或者铜镀银。

6.如权利要求1所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的具有压接头的接地圈（101）与衬套（102）之间采用插套连接方式。

7.如权利要求1所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的具有压接头的接地圈（101）采用金属铝。

8.如权利要求2所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的具有压接头的接地圈（101）的压接头（1011）部分镀有导电涂覆层。

9.如权利要求8所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的导电涂覆层为镍或金。

10.如权利要求2所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的具有压接头的接地圈（101）的顶部（1012）部分进行阳极氧化表面处理。

11.如权利要求10所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的具有压接头的接地圈（101）的顶部（1012）部分的表面涂覆氟化硅或者含氟硅的橡胶。

12.如权利要求1所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，该连接器件还包含设置在具有压接头的接地圈（101）的一侧或两侧的O形密封圈（103），所述的O形密封圈（103）设置在围绕压接头的密封槽内。

13.如权利要求12所述的实现等离子体刻蚀腔体弹性接触的连接器件，其特征在于，所述的O形密封圈（103）为能够耐腐蚀提供气密功能的氟橡胶或硅氟橡胶。

14.一种等离子处理器，所述等离子处理器包括一个反应腔，反应腔内包括一个基座和一个反应气体分布装置，基座内包括一与射频电源连接的阴极，一个导电材料制成的连接器件固定在基座与反应腔内壁间，其中连接器件的第一端与阴极电连接，连接器件的第二端与反应腔内壁在一个电接触界面上固定并实现电连接，所述导电材料制成的连接器件的第一端包括一个压接头，压接头的外侧表面具有弹性导电部件，所述连接器件的第二端包括一个导电沟槽与压接头形状匹配两个表面结合形成稳定电连接。