[发明专利]用于在挤压工具上生成涂层的方法有效
申请号: | 201180072984.9 | 申请日: | 2011-12-29 |
公开(公告)号: | CN103748264A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | J.梅尔;O.梅尔;W.伯金;H.霍尔兹舒 | 申请(专利权)人: | WEFA辛根有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/36 | 分类号: | C23C16/36;B21C25/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 侯宇 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 挤压 工具 生成 涂层 方法 | ||
1.一种用于在由耐高温和/或持久耐热的钢材料构成的作为基体的挤压工具上、借助化学气相沉积(CVD)制造一层或多层的涂层的方法,具有以下步骤:
-提供由在处于400℃至950℃的范围中的、尤其在500℃至640℃之间的挤压工作温度下持久耐热的并且设置用于与延展的挤压金属配合作用的钢材料、尤其是耐热工具钢构成的基体,
-将具有金属、尤其是钛的第一反应气体导入容纳所述基体的反应器中,用于提供涂层金属,
-将具有碳化合物的第二反应气体导入反应器中,用于提供用于涂层的碳,
-其中第一和/或第二反应气体或其他反应气体提供用于涂层的氮,
-利用反应气体在700℃至950℃、尤其800℃至900℃的中温下实施CVD涂层过程,以用于这样制造涂层,使得碳和氮之间的比例、尤其是重量和/或原子百分比在涂层的至少一层中为C/N>1,尤其是C/N>=1.5,优选C/N>2和/或所述涂层的至少一层具有圆柱的和/或柱形的结构,该结构具有大量的相互相邻的、相互平行并且垂直于基体表面定向的、尤其柱状的组织部段。
2.按照权利要求1所述的方法,其特征在于,所述用于金属化合物的涂层金属的第一反应气体被这样设置,即所述金属从Ti,Zr,B,Cr,Cu,Mg,Hf构成的组中选出。
3.按照权利要求1或2所述的方法,其特征在于,第一反应气体具有TiCl4。
4.按照前述权利要求之一所述的方法,其特征在于,第二反应气体从由CH3CN、C2H6或它们的混合物构成的组中选择。
5.按照前述权利要求之一所述的方法,其特征在于,持久耐热钢在涂层之后具有通过一种按照标准DIN SEP1314的测定冲击功的方法测定的韧性,该韧性在200J至400J之间的范围中,优选在250J至350J之间,而其强度在44HRC至55HRC之间的范围中,优选在48HRC至54HRC之间。
6.按照前述权利要求之一所述的方法,其特征在于,所述涂层的至少一层和/或所述涂层以5μm-15μm的层厚、尤其7μm-11μm的层厚被沉积。
7.按照前述权利要求之一所述的方法,其特征在于,在所述涂层上敷设覆盖层,该覆盖层在高于CVD中温、尤其高于950℃的温度、优选高于1000℃的温度下被敷设。
8.按照权利要求7所述的方法,其特征在于,所述覆盖层的材料从由TiO、Al2O3、TiBN构成的组中选择。
9.按照前述权利要求之一所述的方法,其特征在于,所述涂层的覆盖层或最外层具有Rz在0μ-4μ、尤其Rz在1μ-2.5μ和/或Rz<1.5μ范围内的表面粗糙度,和/或具有按照维氏硬度测量的在2000至3500HV、尤其在2500至3000HV范围内的硬度。
10.按照前述权利要求之一所述的方法,其特征在于,被涂层的基体在CVD涂层过程结束后以回火温度或热时效温度被热处理。
11.按照权利要求1至10之一所述的方法,其特征在于,挤压工具设计为具有芯轴件以及模具板的两构件式工具(10,12),并且在所述芯轴件以及模具板上分别至少部分地制造所述涂层。
12.按照权利要求11所述的方法,其特征在于,所述涂层被敷设在工具的用于形成延展的挤压材料的限界壁的引导通道和/或流动通道上,其中所述通道的进口棱边和/或出口棱边具有敷设涂层的半径。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的