[发明专利]气闸和带有气闸的涂覆装置有效
申请号: | 201180062108.8 | 申请日: | 2011-10-27 |
公开(公告)号: | CN103270194A | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 戴维·波卡扎;斯蒂芬·雷伯;马丁·阿诺德;诺伯特·希林格 | 申请(专利权)人: | 弗劳恩霍弗应用技术研究院 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/54;C23C16/455 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 气闸 带有 装置 | ||
1.一种用于分离两个气室(G1、G2)的气闸(I),其包括
a)至少一个流入体(K),所述流入体具有至少一个用于气体的流入通道(H),所述流入通道通入所述流入体(K)的第一侧中,
b)与所述至少一个流入体(K)的第一侧隔开间距布置的壁(A),其中,在所述壁(A)和所述至少一个流入体(K)之间形成与所述流入通道(H)流体连通的间隙(B),
c)至少两个用于气体的流出孔(i1、i2),它们与所述间隙(B)流体连通,其特征在于,在限定所述至少一个流入体(K)的第一侧中和/或在所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧面中存在至少一个用于测量气体的至少一个物理和/或化学特性的测量室(C)。
2.根据权利要求1所述的气闸(I),其特征在于,在限定所述至少一个流入体(K)的第一侧和/或所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧面中存在至少另一个、优选地至少另外两个用于测量气体的至少一个物理和/或化学特性的测量室(D1、D2)。
3.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,限定所述至少一个流入体(K)的第一侧和/或所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧面具有至少一个、优选地多个从所述流入体的第一侧出发伸入所述流入体中的或从所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧面出发伸入所述壁(A)中的凹口(E)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,限定所述至少一个流入体(K)的第一侧和/或所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧面具有至少一个、优选地多个从所述流入体的第一侧出发伸入所述间隙(B)中的或从所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧面出发伸入所述间隙(B)中的突出部(F)。
5.根据两个前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,存在至少一个凹口(E)和至少一个突出部(F)。
6.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,所述至少一个流入体(K)具有至少两个流入通道(H1、H2),其中,所述测量室(C)布置在所述两个流入通道(H1、H2)之间。
7.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,所述气闸构造成关于所述测量室(C)镜像对称和/或关于平行于所述气闸延伸的轴线旋转对称。
8.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,如此布置所述流出孔(i1、i2),即,使得第一流出孔(i1)的流出方向与第二流出孔的流出方向相反。
9.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,所述间隙(B)基本上垂直于所述至少一个流入通道(H)延伸。
10.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,存在至少一个用于抽吸气体(AS)的方案。
11.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,所述至少一个流入体(K)具有至少两个用于气体的流入通道(H1、H2),并且所述间隙(B)与所述至少两个流入通道(H1、H2)流体连通,其中,在限定所述至少一个流入体(K)的第一侧和/或所述壁(A)的面对所述流入体(K)的第一侧的侧面中存在至少两个用于测量气体的至少一个物理和/或化学特性的测量室(C1、C2)。
12.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,存在n个测量室(C1、C2、…、Cn),其中,n为≥2的整数,所述测量室优选等距地布置,其中,每个测量室在每侧都有至少一个流入通道(H1、H2、…、Hn)设置在侧面。
13.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,在所述至少一个、限定所述测量室(Cn)的侧面的测量通道(Hx)和与该测量通道(Hx)相邻的位于相邻的测量室(Cn+1)侧面的测量通道(Hx+1)之间分别设置抽吸部(AS1、AS2、…、AS(n-1))。
14.根据前述权利要求中任一项所述的气闸(I),其特征在于,在所述壁(A)的背离所述流入体(K)的侧面上布置
a)至少另一流入体(K'),或者,
b)多个交替地布置的流入体(K'、K''、...、Kn)和板(A2、A3、...、An-1)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于弗劳恩霍弗应用技术研究院,未经弗劳恩霍弗应用技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180062108.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于钻探和/或开采的海上塔
- 下一篇:烧结体溅射靶
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的