[发明专利]食品以及用于烘焙的方法和设备在审
申请号: | 201180056412.1 | 申请日: | 2011-09-23 |
公开(公告)号: | CN103220912A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | J·W·奥尔弗;P·J·多梅尼库奇;J·埃梅里 | 申请(专利权)人: | 埃米希尔德股份有限公司;AMF自动化技术有限责任公司 |
主分类号: | A21B1/42 | 分类号: | A21B1/42 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 周家新;蔡洪贵 |
地址: | 美国弗*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 食品 以及 用于 烘焙 方法 设备 | ||
1.一种制作食品的过程,所述过程包括:
提供炉,所述炉具有:
壳体,其包括顶部、底部、两个相对的侧壁和开口,所述开口借以形成至少一个内部加热区,以在加热区中接收炉烹饪配件;
用于向加热区提供热量的加热装置;
设置在至少一个衬底表面上的高辐射热保护层,其中,
衬底表面包括设置在炉壳体内的金属或陶瓷表面;和
所述高辐射热保护层包括:
大约5%至大约30%的无机粘合剂、大约45%至大约92%的至少一种填料和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂;或者
大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合,大约23%至大约79%的至少一种填料,以及大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂;
提供用于在加热过程中保持混合的配料或准备的面团的烹饪配件;
在烹饪配件中保持所述混合的配料或准备的面团;和
在至少一个加热区中加热烹饪配件,直到制作好食品。
2.如权利要求1所述的制作食品的过程,其中:
热保护层还包括大约1.0%至大约5.0%的稳定剂;
热保护层还包括表面活性剂或分散剂;
热保护层还包括着色剂;
无机粘合剂从由碱金属/碱土金属硅酸盐构成的组中选择,所述碱金属/碱土金属硅酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙和硅酸镁构成的组中选择;
填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择;
所述一种或多种辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钼、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择;或
它们的组合;
稳定剂从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择;
热保护层为大约1密耳(大约25微米(μ))至大约4密耳(大约100μ)厚;或
它们的组合。
3.如权利要求1所述的过程,其中:
热保护层包含:
a.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属硅酸盐构成的组中选择,所述碱金属/碱土金属硅酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙、硅酸镁和聚硅酸盐构成的组中选择;大约45%至大约92%的至少一种填料,所述填料从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择;和大约1%至大约25%的一种或多种辐射剂,所述辐射剂从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钼、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择;
b.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合;大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料;和大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钼、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂;
c.大约5%至大约30%的无机粘合剂,所述无机粘合剂从由碱金属/碱土金属硅酸盐构成的组中选择,所述碱金属/碱土金属硅酸盐从由硅酸钠、硅酸钾、硅酸钙、硅酸镁和聚硅酸盐构成的组中选择;大约45%至大约92%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料;大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钼、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射剂;和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂;
d.大约5%至大约35%的胶体氧化硅、胶体氧化铝或它们的组合;大约23%至大约79%的从由二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化镁、氧化钙和氧化硼构成的组中选择的至少一种填料;大约1%至大约25%的从由六硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钼、二硅化钨、二硼化锆、亚铬酸铜和金属氧化物构成的组中选择的一种或多种辐射;和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂;
e.大约10%至大约30%的硅酸钠,大约50%至大约79%的二氧化硅粉末,和大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钼、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂;
f.大约10%至大约30%的硅酸钠,大约50%至大约79%的二氧化硅粉末,大约4%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅粉末、二硅化钼、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂,和大约1%至大约5%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂;
g.大约10%至大约30%的胶体氧化硅,大约50%至大约79%的二氧化硅粉末,和大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钼、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂;或
h.大约10%至大约30%的胶体氧化硅,大约50%至大约79%的二氧化硅粉末,大约2%至大约15%的从由氧化铁、硼化硅、碳化硼、四硼化硅、碳化硅、二硅化钼、二硅化钨和二硼化锆构成的组中选择的一种或多种辐射剂,和大约1.5%至大约5.0%的从由膨润土、高岭土、镁铝硅酸盐粘土、片状氧化铝和稳定性氧化锆构成的组中选择的稳定剂。
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