[发明专利]曝光装置、移动体装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法有效

专利信息
申请号: 201180043135.0 申请日: 2011-09-05
公开(公告)号: CN103238112A 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 青木保夫 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;F16C32/04;H02K41/035
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 任默闻
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 曝光 装置 移动 平板 显示器 制造 方法 元件
【说明书】:

技术领域

本发明系关于曝光装置、移动体装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法,进一步详言的,系关于在制造半导体元件、液晶显示元件等的微影制程中所使用的曝光装置,适合作为该曝光装置保持曝光对象物体而移动的装置的移动体装置、使用前述曝光装置的平板显示器的制造方法、以及使用前述曝光装置的元件制造方法。

背景技术

于习知用以制造液晶显示元件、半导体元件(集成电电路等)等电子元件(微元件)的微影制程中,系使用一边使掩膜或标线片(以下,统称为「掩膜」)与玻璃板或晶圆(以下,统称为「基板」)沿既定扫描方向(扫描方向)同步移动、一边将形成于掩膜的图案使用能量束转印至基板上的步进扫描(step&scan)方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(亦称扫描机))等。

此种曝光装置,以具有可在扫描方向以长行程移动的X粗动载台上搭载可移动于扫描交叉方向(与扫描方向正交的方向)的Y粗动载台的重迭型(gantry型)载台装置者广为人知,作为该载台装置,已知有例如在以石材形成的平台上重量消除(cancel)装置沿水平面移动的构成者(例如,参照专利文献1)。

然而,上述专利文献1所记载的曝光装置,由于重量消除装置系以对应步进扫描(step&scan)动作的广范围移动,因此必须在一广范围将平台上面(重量消除装置的移动导引面)的平面度做得非常高。加上近年来曝光装置的曝光对象基板有日益大型化的倾向,随的而来的平台亦大型化,因此除了成本増加外,曝光装置的搬运性、组装时的作业性悪化等亦受到极大关注。

又,上述专利文献1所记载的曝光装置,为了在平台(载台基座)与微动载台之间容纳XY二轴载台、及用以微幅驱动微动载台的致动器等,因此在高度方向需要非常大的空间。为此,重量消除装置不得不变得更大(高),而为了沿水平面驱动重量消除装置,亦必须有大的驱动力。

一直以来,在驱动大质量的基板载台时,系采用可产生大驱动力(推力)的具有铁心的线性马达。此具有铁心的线性马达,在可动子(或固定子)中所含的磁石单元与固定子(或可动子)中所含的具有铁心的线圈单元之间,可产生数倍于推力的磁吸力(吸引力)。具体而言,相对于4000N的推力,可产生10000~20000N的吸引力。

因此,上述构成的习知基板载台装置,会在X粗动载台与载台基座之间配置的一对单轴驱动单元,产生基板、Y粗动载台、X粗动载台等的大重量负载(及伴随X粗动载台的移动的惯性力)的作用,且特别是从构成上述一对单轴驱动单元的具铁心的线性马达产生的大吸引力亦会作用于此。因此,单轴驱动单元、尤其是分别构成该单轴驱动单元的一部分的线性马达及导引装置必须具备大负载容量(能力),此外,亦必须将可动构件及固定构件牢固的构成为可耐来自线性马达的吸引力。

另一方面,由于构成导引装置(单轴导件)的线性导件(轨道)与滑件之间会作用大的摩擦阻抗,因此而导致驱动阻抗増加,因此需要能产生更大驱动力的线性马达。除此的外,诸如基板载台装置的大型化、在导引装置的摩擦热及在线性马达的焦耳热的产生、吸附物造成的机械损伤等附带的问题亦日趋明显。

先行技术文献

[专利文献1]美国专利申请公开第2010/0018950号说明书。

发明内容

本发明第1态样的第1扫描型曝光装置,系在曝光处理时相对曝光用的能量束使曝光对象的物体在与水平面平行的第1方向以既定第1行程移动,其具备:第1移动体,可于该第1方向至少以该既定第1行程移动;第2移动体,引导该第1移动体于该第1方向的移动,且能于该水平面内在与该第1方向正交的第2方向与该第1移动体一起以第2行程移动;物体保持构件,可保持该物体、与该第1移动体一起至少在与该水平面平行的方向移动;重量消除装置,从下方支承该物体保持构件以消除该物体保持构件的重量;以及支承构件,系延伸于该第1方向,从下方支承该重量消除装置并能在从下方支承有该重量消除装置的状态下,于该第2方向以该第2行程移动。

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