[发明专利]隐形眼镜中的缺陷的检验有效
申请号: | 201180007728.1 | 申请日: | 2011-02-23 |
公开(公告)号: | CN102834704A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 维克多·费多普拉柯夫;黄循威;任长坡 | 申请(专利权)人: | 联达科技检测私人有限公司 |
主分类号: | G01M11/00 | 分类号: | G01M11/00;G01N21/88;G02C7/04 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 雷绍宁 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 隐形眼镜 中的 缺陷 检验 | ||
1.一种用于检验隐形眼镜的方法,所述方法包含:
同时使用明场照明和暗场照明来照射所述隐形眼镜;
使用从所述隐形眼镜接收的光来捕获所述隐形眼镜的图像;以及
处理所述图像,从而识别所述隐形眼镜中的一个或多个缺陷的存在。
2.根据权利要求1所述的方法,其中照射所述隐形眼镜包含:使用直射光为所述隐形眼镜提供明场照明。
3.根据权利要求1所述的方法,其中照射所述隐形眼镜包含:使用有角度光为所述隐形眼镜提供低角度暗场照明。
4.根据权利要求3所述的方法,其中使用有角度光照射所述隐形眼镜包含:将光有角度地投射到模具的壳的内部表面。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述被检验的隐形眼镜安置在位于阳模与阴模之间的腔之内。
6.根据权利要求1所述的方法,其中处理所述图像包含:识别在亮度的动态范围的第一部分中的暗缺陷,以及识别在所述亮度的动态范围的第二部分中的亮缺陷。
7.一种用于检验隐形眼镜的系统,所述系统包含:
照明系统,其配置成同时使用明场照明和暗场照明来照射所述隐形眼镜;
成像光学系统,其用于接收从所述隐形眼镜透出的光,其中所述光是通过同时的明场照明和暗场照明产生;
相机,其配置成使用由所述成像光学系统接收的所述光来捕获所述隐形眼镜的图像;以及
数据处理系统,其配置成处理所述图像,从而识别所述隐形眼镜中的缺陷的存在。
8.根据权利要求7所述的系统,其中所述照明系统配置成使用直射光来照射所述隐形眼镜,从而为所述隐形眼镜提供明场照明。
9.根据权利要求7所述的系统,其中所述照明系统配置成使用有角度光来照射所述隐形眼镜,从而为所述隐形眼镜提供低角度暗场照明。
10.根据权利要求9所述的系统,其中所述照明系统配置成将光有角度地投射到模具的壳的内部表面,从而照射所述隐形眼镜。
11.根据权利要求7所述的系统,其中所述被检验的隐形眼镜安置在位于阳模与阴模之间的腔之内。
12.根据权利要求7所述的系统,其中所述数据处理系统配置成:识别在亮度的动态范围的第一部分中的暗缺陷,并识别在亮度的所述动态范围的第二部分中的亮缺陷。
13.根据权利要求7所述的系统,其中所述隐形眼镜是透明隐形眼镜或印刷隐形眼镜。
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