[实用新型]晶圆用的平贴装置有效
| 申请号: | 201120308095.5 | 申请日: | 2011-08-23 |
| 公开(公告)号: | CN202183365U | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
| 发明(设计)人: | 林连生;洪俊豪 | 申请(专利权)人: | 新群科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;B65G47/90 |
| 代理公司: | 北京华夏博通专利事务所 11264 | 代理人: | 刘俊;齐旺 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶圆用 装置 | ||
技术领域
本实用新型是涉及一种在加工晶圆的自动化设备中,用来将晶圆平贴于工作台面的晶圆平贴装置。特别是指一种针对变形翘曲晶圆用的平贴装置,能在平贴过程中避免晶圆破片。
背景技术
在现有的加工晶圆自动化设备中,当薄化的硬脆晶圆需平贴于一真空平台上,通常是用真空平台直接对晶圆抽真空。但由于薄化后的晶圆容易翘曲变形,所以常导致在真空吸附晶圆过程中,因晶圆与真空平台之间有间隙,而造成晶圆无法均匀的被吸附平贴于平台之上。另外,有时也会因真空吸附晶圆时,吸附力量不均匀,或真空平台设计不当,而造成晶圆破片现象。
实用新型内容
因此本实用新型的主要目的是在设计一种晶圆用的平贴装置,此装置具有吸盘来吸附翘曲变形的晶圆,以及具有一可调速的真空吸附平台来压掣晶圆,藉由吸盘及真空平台对晶圆压平后,再由真空吸附平台抽真空,将晶圆平贴于平台上。此种方式是先将翘曲的晶圆压平,真空平台再对晶圆抽真空,可以避免晶圆与真空平台之间有间隙,而在抽真空过程中造成吸附不良现象。
本实用新型的另一目的是在设计一种晶圆用的平贴装置,此装置中具有一可调速的真空吸附平台,可以平缓的压掣晶圆,避免在压掣晶圆过程中因施力不当而造成破片。
本实用新型所提供的晶圆用的平贴装置,主要包括一吸附机构、一抽真空平台及一升降滑台。该吸附机构具有至少一可轴向移动的位移杆,该位移杆的一端设置一软质弹性体,用来吸附一翘曲变形的晶圆。再由设有一马达的升降滑台控制该抽真空平台上升并压掣晶圆,使原本翘曲的晶圆被压平,再由抽真空平台对晶圆抽真空,使晶圆平贴于抽真空平台上。
由于是利用能确实定位的马达来控制抽真空吸盘上升的行程,因此,抽真空平台每次上升都是采用预设的距离,抽真空平台接触晶圆后,更是缓缓的压掣晶圆,所以不会有施力过当而造成破片的问题。
与直接以抽真空平台对翘曲晶圆抽真空的现有技术相较,本实用新型由于已事先藉由抽真空平台将晶圆压平,所以晶圆放在抽真空平台上时,没有间隙且施力平均,抽真空过程中不会造成晶圆破片及不平贴的现象。且,本实用新型机具间的移动皆采用数字化控制,不会有突然强大的力量对晶圆造成压迫。因此,本实用新型晶圆用的平贴装置可以大幅提升晶圆的良率。
附图说明
图1为本实用新型晶圆用的平贴装置较佳实施例示意图;
图2为本实用新型软质弹性体吸附晶圆的示意图;
图3为图2的局部详图;
图4为本实用新型升降滑台与抽真空平台的分解图;
图5为本实用新型抽真空平台向上压掣晶圆的示意图;
图6为本实用新型抽真空平台剖面图。
具体实施方式
以下配合附图对本实用新型的实施方式做更详细的说明,以使熟悉本领域技术人员在研读本说明书后能据以实施。
请参考图1为本实用新型晶圆用的平贴装置较佳实施例示意图。主要包括一吸附机构1、一抽真空平台2及一升降滑台3。该吸附机构1具有至少一可轴向移动的位移杆11,该位移杆11的一端设置一软质弹性体12,用来吸附一翘曲变形的晶圆(容后揭露)。再由设有一伺服马达(设于伺服滑台内部,图中未示)的该升降滑台3控制该抽真空平台2上升并压掣晶圆,使原本翘曲的晶圆被压平,再由抽真空平台2对晶圆抽真空,使晶圆平贴于抽真空平台2上。由于已事先将晶圆压平,所以晶圆与抽真空平台2之间没有间隙,抽真空过程中不会造成晶圆破片及不平贴的现象。其中,所述位移杆11是受自重控制。
在本实用新型实施例中,所述吸附机构1进一步包括一基架13,该基架13是用来设置所述位移杆11。位移杆11可以设置四根,每一根位移杆11的一端皆设置该软质弹性体12,藉由四个软质弹性体12能牢固的吸附晶圆。在位移杆11及基架13之间设有一轴承14,位移杆11是轴向穿设于该轴承14中,位移杆11的另一端连结一真空管路15,受其自重控制,可使位移杆11相对于该轴承14轴向移动,以调整软质弹性体12的高度,使其可接触到晶圆;而该晶圆是由一机械手臂(图中未示)送至吸附机构1下方。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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