[实用新型]一种有效收集衬底电流的LDMOS版图结构有效
申请号: | 201120214928.1 | 申请日: | 2011-06-23 |
公开(公告)号: | CN202134539U | 公开(公告)日: | 2012-02-01 |
发明(设计)人: | 顾学强;肖慧敏;陈力山 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06;H01L29/423;G06F17/50 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有效 收集 衬底 电流 ldmos 版图 结构 | ||
1.一种有效收集衬底电流的LDMOS版图结构,其特征在于,包括P型体区、N型漂移区、源区、漏区、体引出区以及栅极区,所述P型体区与N型漂移区相邻,所述栅极区跨设于P型体区和N型漂移区上方,所述漏区位于所述N型漂移区中,所述源区、体引出区平行交替排列于P型体区中,所述源区、体引出区均通过栅极区与所述漏区分隔开,所述源区、体引出区均与所述栅极区的边界相接或部分重合。
2.如权利要求1所述的有效收集衬底电流的LDMOS版图结构,其特征在于,所述源区、漏区、体引出区以及栅极区上分别设置有若干接触孔。
3.如权利要求2所述的有效收集衬底电流的LDMOS版图结构,其特征在于,所述源区、漏区、体引出区的面积与所述接触孔的面积相适配。
4.如权利要求1所述的有效收集衬底电流的LDMOS版图结构,其特征在于,所述源区与体引出区相邻的边界相接,非相邻的边界相应对齐。
5.如权利要求1所述的有效收集衬底电流的LDMOS版图结构,其特征在于,所述源区与所述漏区为N型掺杂注入区,所述体引出区为P型掺杂注入区。
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