[发明专利]衬底处理系统无效
申请号: | 201110449880.7 | 申请日: | 2011-12-29 |
公开(公告)号: | CN102646613A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 金基相;安太赫;朴东健;李上源;金俸先 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜盛花;陈源 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 衬底 处理 系统 | ||
技术领域
本发明构思涉及用于处理衬底的系统,更具体地讲,涉及一种用于在包括传送模块的多个加工设备之间处理衬底的系统。
背景技术
半导体加工在装设在无尘室中的多个加工设备中进行。通常,每个加工设备可以包括装载端口、传送模块和处理模块。包含多个衬底的容器置于装载端口上。传送模块布置在装载端口与处理模块之间,并且可以包括搬送机器人,用于在置于装载端口上的容器与处理模块之间搬送衬底。美国已公布专利第2008/0255697号中公开了上述加工设备的一个示例。
多个加工设备布置在一个无尘室中,并且彼此间隔开。多个衬底以被包含在容器中的状态通过搬送装置或工人在多个加工设备之间进行传送。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种衬底处理系统,其在利用多个加工设备进行加工时可以有效地进行加工。
本发明要解决的技术问题并不限于此,本领域的技术人员通过下述的说明可以清楚地理解未提及的其他技术问题。
本发明构思的实施例提供一种衬底处理系统。所述衬底处理系统可以包括:多个加工设备,每个加工设备分别包括传送模块和处理模块,所述传送模块中设置有搬送机器人,所述处理模块连接到所述传送模块;缓冲台,其位于相邻的所述传送模块之间,并且用于在所述传送模块之间传送衬底,其中,所述多个加工设备包括:至少一个第一设备,在该第一设备中处理模块位于沿着所述传送模块和所述缓冲台排列的方向所提供的连接线的第一侧;以及至少一个第二设备,在该第二设备中处理模块位于所述连接线的第二侧,其中,与提供给所述第二设备的传送模块相比较,提供给所述第一设备的传送模块朝向所述连接线的所述第一侧更突出。
本发明构思的实施例还提供一种衬底处理系统。所述系统可以包括:第一传送模块,其中设置有搬送机器人;第二传送模块,其中设置有搬送机器人;第一缓冲台,其布置在所述第一传送模块与所述第二传送模块之间,并且用于在所述第一传送模块和所述第二传送模块之间传送衬底;第一处理模块,其与所述第一传送模块结合并且布置在连接线的第一侧,其中,所述连接线的方向是沿所述第一传送模块、所述第一缓冲台和所述第二传送模块排列的方向;以及第二处理模块,其与所述第二传送模块结合并且布置在所述连接线的第二侧,其中,关于所述连接线,与所述第二传送模块相比较,所述第一传送模块朝向所述连接线的所述第一侧更突出。
根据本发明构思,可以有效地执行加工设备之间的衬底搬送。
此外,根据本发明构思,可以有效地利用安装有多个加工设备的无尘室的有限空间。
附图说明
图1是示出衬底处理系统的一个示例的俯视图。
图2是示出传送模块和缓冲台的内部结构的截面视图。
图3是粗略示出图2的缓冲部件的一个示例的透视图。
图4是粗略示出图2的缓冲部件的另一个示例的透视图。
图5是粗略示出图1的缓冲台的一个示例的透视图。
图6是粗略示出图1的缓冲台的另一个示例的俯视图。
图7和图8分别是示出图1的缓冲台的再一个示例的透视图。
图9是描述图1的衬底处理系统中的传送模块的形状的示图。
图10至图15分别是粗略示出图1的衬底处理系统的另一个示例的俯视图。
图16是粗略示出图15的衬底处理系统的一个示例的示图。
图17至图19分别是示出图1的衬底处理系统的再一个示例的俯视图。
图20是示出图19的衬底处理系统的一个示例的示图。
图21至图23是粗略示出衬底处理系统的再一个示例的俯视图。
图24至图26是粗略示出布置多个图1的衬底处理系统的一个示例的俯视图。
图27至图29分别是粗略示出衬底处理系统中衬底的搬送路径的示图。
具体实施方式
以下将参考附图1至29来更详细地描述本发明构思的优选实施例。但是,本发明构思的实施例可以以不同形式来实现,而不应理解为限于本文所述的实施例。更确切地说,提供这些实施例是为了使本公开完整和彻底以及将完整地向本领域技术人员传递本发明构思的范围。附图中,为了清楚起见,可能放大了元件的形状。
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