[发明专利]一种在nanoLOC测距系统中利用RSSI降低多径误差的方法有效

专利信息
申请号: 201110404503.1 申请日: 2011-12-08
公开(公告)号: CN102523592A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 赵泰洋;郭成安;李小兵;王宇;杨清山 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: H04W24/00 分类号: H04W24/00;H04W64/00
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 梅洪玉
地址: 116024*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 nanoloc 测距 系统 利用 rssi 降低 误差 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于无线定位技术领域,涉及一种以nanoLOC芯片的测量结果为基础,通过数据融合技术来减少多径效应对测距结果影响的方法。 

背景技术

nanoLOC是nanotron公司生产的一款高精度时差测距芯片,可利用该芯片构成无线定位系统。而测距是定位的前提,测距的精度直接决定接下来的定位精度。在对该芯片构成的定位系统进行测距实验中发现,在开阔空间中,测距结果非常好,在60米的距离测距误差约为1米左右;但在室内,会存在多径效应。多径效应是指实际的无线电波传播信道中,常有许多时延不同的传输路径,那么就会对测量结果产生一定的影响。由于多径效应的影响,测量误差大大增加。在60米距离的测量误差约为20米到30米。在这种情况下,跟本无法实现定位功能。 

该技术用于采用nanoLOC芯片构成的定位系统中。该系统由基站和移动站组成。基站位于某个固定位置,坐标已知。移动站即待定位站,可在基站覆盖范围内任意移动。 

发明内容

本发明要解决的技术问题是利用nanoLOC芯片所能提供的信息,包括测距结果和RSSI(接收信号强度指示)值,对原始的测距结果进行修正,使多径效应对测距结果的影响尽可能小。 

本发明的技术方案: 

测距是指移动站与基站在通信过程中,利用无线电信号传播时延来测量两者之间的距离。在采用nanoLOC芯片构成的定位系统中,移动站通过内置的 nanoLOC芯片与基站的nanoLOC芯片进行通信,在通信过程中,nanoLOC芯片会测量无线电信号传播时延,进而计算出移动站与基站间的距离。 

移动站可从nanoLOC芯片中得到两个重要信息:测距结果和RSSI值。 

在开阔的环境中,测距结果误差很小,RSSI值随测距结果的增加而增加。需要注意的是,这里的RSSI值并不是一个实际值,而是nanoLOC芯片在数据处理过程中得到的一个参量,无任何单位,正比于芯片中AGC的放大倍数。即接收到信号越强,这个数值越小。 

在室内环境中,由于多径效应的存在,测距结果会有很大的误差。虽然得到的RSSI值也随着测距结果的增加而增加,但与开阔环境相比,同样的测距结果,室内测量得到的RSSI值要比室外大很多,即相同长度的传播路径,有多径的条件下,损耗要比无多径环境中大很多。 

因此我们可以根据多径环境中RSSI值与无多径环境中得到的RSSI值做比较,两者的差值即可反映出多径传播的损耗。同理,我们可以通过比较一次测量结果中测距结果和RSSI值,来判断此次测量是否存在多径误差。当确认一次测距结果中存在多径误差之后,可以利用下文中的方法来减小多径误差,使测距结果更接近真实值。 

所述的降低多径误差的方法利用下文中的公式对测距结果进行处理,流程具体如下: 

1.启动nanoLOC芯片的一次测距过程,在测距结束后,读取其测距结果和RSSI值。 

2.将读取的测距结果代入公式(1)中: 

r′=K×d    (1) 

其中d是从nanoLOC芯片中读取的测距结果,K是比例常数,通常取0.7 效果较好。r′是计算得到的RSSI的参考值,该值是在无多径环境下,测距结果为d时的RSSI值。对于不同的天线,K值会有所不同。在确定K的过程中,首先在开阔的环境中(无多径效应)对于不同的距离得到测距结果和RSSI值,RSSI值与测距结果之间的关系接近于正比例关系。之后根据得到的测距结果和RSSI值采用拟合的方法可以计算出K的值。 

3.将RSSI的参考值r′与从nanoLOC芯片中读取的RSSI值r代入下式: 

Vr=r′-r    (2) 

式中Vr是RSSI的参考值与从读到的RSSI值的差;再将该差值代入公式(3)即可得到校正参数C; 

4.利用式(3)得到的校正参数C对测距结果d按照公式(4)进行修正,即可得到最终测距结果d0。 

d0=dC---(4)]]>

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110404503.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top