[发明专利]一种电极改造方法、装置及用于刻蚀的机台无效
申请号: | 201110391992.1 | 申请日: | 2011-11-30 |
公开(公告)号: | CN103137402A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 匡友停 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04;H01J37/32 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电极 改造 方法 装置 用于 刻蚀 机台 | ||
技术领域
本发明涉及电子及半导体领域,特别涉及一种电极改造方法、装置及用于刻蚀的机台。
背景技术
LAM(半导体刻蚀设备制造商)公司生产的LAM4600机台用于半导体刻蚀。目前的LAM4600机台的出厂配置的下电极是表面裸露的铝合金下电极,再在其表面贴一层聚酰亚胺薄膜,以进行绝缘保护及将下电极表面与等离子体进行隔离后进行刻蚀。LAM原厂的贴聚酰亚胺薄膜的方法是在LAM4600机台下电极表面往复碾压聚酰亚胺薄膜,一点点从中心处向边缘推出,直至在整个直径150毫米的下电极表面贴出一张完整的没有任何残存空气的聚酰亚胺薄膜。
在70度的工作条件下,聚酰亚胺薄膜边缘胶层极易脱出,在真空环境下形成鼓包,导致晶片与下电极接触不良,使刻蚀工作无法正常进行,因此平均2至3周需更换一次聚酰亚胺薄膜。再次贴聚酰亚胺薄膜时要求在直径150毫米的下电极表面完成,且不能在聚酰亚胺薄膜下表面残存空气,否则在真空环境下会形成气泡,影响刻蚀工作。按照LAM原厂的贴聚酰亚胺薄膜方法,操作复杂,一次耗时约2小时,且因为需要手工完成,又对精确度要求很高,导致成功率较低。且聚酰亚胺薄膜寿命有限,需要频繁更换,较为麻烦。
发明内容
本发明实施例提供一种电极改造方法、装置及用于刻蚀的机台,用于提升机台保养效率,增加机台稳定性。
一种电极改造方法,包括以下步骤:
将用于刻蚀的机台的下电极表面置于电解液中,对所述下电极表面进行氧化;
将氧化后的下电极安装在所述机台上。
一种电极改造装置,包括:
处理模块,用于将用于刻蚀的机台的下电极表面置于电解液中,对所述下电极表面进行氧化;
操作模块,用于将氧化后的下电极安装在所述机台上。
一种用于刻蚀的机台,包括下电极,所述下电极表面覆盖有一层氧化物膜。
本发明实施例通过将下电极表面进行氧化,将氧化后的下电极安装在机台上。从而可以使LAM4600机台的下电极表面无需贴聚酰亚胺薄膜,节省操作时间。且因为无需贴膜,则不存在贴膜所产生的气泡问题,也不存在贴胶与下电极表面的脱层问题。提升机台的保养效率,增加机台的稳定性。
附图说明
图1为本发明实施例中电极改造方法的主要流程图;
图2为本发明实施例中电极改造装置的主要结构图。
具体实施方式
本发明实施例通过将用于刻蚀的机台的下电极表面置于电解液中,对所述下电极表面进行氧化,将氧化后的下电极安装在所述机台上。从而可以使LAM4600机台的下电极表面无需贴聚酰亚胺薄膜,节省操作时间。且因为无需贴膜,则不存在贴膜所产生的气泡问题,也不存在贴胶与下电极表面的脱层问题。提升机台的保养效率,增加机台的稳定性。
参见图1,本发明实施例中电极改造方法的主要流程如下:
步骤101:将用于刻蚀的机台的下电极表面置于电解液中,对所述下电极表面进行氧化。其中,可以采用阳极氧化的方式,这种金属表面加工方法是将电极材料置于阳极,藉由电流的作用使其表面氧化,形成一层氧化物膜,从而使电极材料坚硬耐磨,抗腐蚀性极高,绝缘性好,且表面色泽优美。所述机台为用于刻蚀的机台,较佳的,所述机台为LAM4600机台。
步骤102:将氧化后的下电极安装在所述机台上。
采用阳极氧化处理后的下电极,可以进行绝缘保护及将下电极表面与等离子体进行隔离,从而保证刻蚀工作的正常进行。且正常情况下,阳极氧化后的下电极使用寿命较长,一般可达到2-3年,减少了更换的次数,在保养时用无尘布沾水擦拭即可,操作简便,耗时较短。即使因为其表面氧化物膜出现严重损伤等原因而需要更换下电极,更换作业也只需30分钟左右,十分方便快捷。
以下介绍电极改造装置。
参见图2,本发明实施例中电极改造装置包括处理模块201及操作模块202。
处理模块201用于将用于刻蚀的机台的下电极表面置于电解液中,对所述下电极表面进行氧化。其中,可以采用阳极氧化的方式。
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