[发明专利]一种电极改造方法、装置及用于刻蚀的机台

权利要求书

1.一种电极改造方法，其特征在于，包括以下步骤：

将用于刻蚀的机台的下电极表面置于电解液中，对所述下电极表面进行氧化；

将氧化后的下电极安装在所述机台上。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述氧化方式为阳极氧化。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，阳极氧化过程中，将所述下电极置为阳极。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述阳极氧化的过程包括：将阳极材料及阴极材料置于电解液中，当电流通过时，在阴极释放出氢气，在阳极析出氧分子，作为阳极的所述下电极材料被其上析出的氧所氧化，形成氧化物膜。

5.如权利要求1-4任意一项所述的方法，其特征在于，所述氧化物膜形成在下电极表面。

6.一种电极改造装置，其特征在于，包括：

处理模块，用于将用于刻蚀的机台的下电极表面置于电解液中，对所述下电极表面进行氧化；

操作模块，用于将氧化后的下电极安装在所述机台上。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述处理模块采用阳极氧化的方式对所述下电极表面进行氧化。

8.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述处理模块在阳极氧化过程中将所述下电极置为阳极。

9.一种用于刻蚀的机台，包括下电极，其特征在于，所述下电极表面覆盖有一层氧化物膜。

10.如权利要求9所述的机台，其特征在于，所述氧化物膜为将所述下电极表面进行阳极氧化后生成。

11.如权利要求10所述的机台，其特征在于，所述氧化物膜的厚度范围为[6μm，25μm]。

12.如权利要求11所述的机台，其特征在于，所述氧化物膜包括阻挡层及多孔的外层。

13.如权利要求12所述的机台，其特征在于，

所述阻挡层由无水氧化物所组成，用于阻挡电流通过；

所述外层由非晶型的氧化物及小量的水合氧化物所组成，用于防止所述氧化物膜被腐蚀。

14.如权利要求12所述的机台，其特征在于，所述阻挡层的厚度范围为[0.03μm，0.05μm]。