[发明专利]涂布型扩散剂组合物有效

专利信息
申请号: 201110378630.9 申请日: 2011-11-21
公开(公告)号: CN102533101A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 森田敏郎;神园乔 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D183/07;C09D7/12;H01L21/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 涂布型 扩散 组合
【权利要求书】:

1.一种涂布型扩散剂组合物,所述扩散剂组合物用于使杂质扩散成分扩散至半导体基板,其特征在于,含有:

以下述通式(1)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(A)、

杂质扩散成分(C)和

有机溶剂(D),

〔化1〕

R1mSi(OR2)4-m    (1)

式(1)中,R1、R2是有机基团,多个R1、R2可以相同,也可以不同,m是0、1或2,其中,m=0的情况下,缩合化合物(A)由多个(1)形成,必定包含m=1或2的烷氧基硅烷。

2.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)包含用下述通式(2)表示的结构,

〔化2〕

式(2)中,X是烷氧基,Y是有机基团,n∶1为95∶5~0∶100的范围。

3.如权利要求2所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述Y是烷基、芳基、环氧基、或-R3-R4表示的基团,

多个X、Y可以相同,也可以不同,R4是芳基或含有乙烯性不饱和双键的基团,R3是碳原子数为1~9的亚烷基,也可以为具有不同的R3的情况。

4.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,进一步含有以下述通式(3)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(B),

〔化3〕

Si(OR5)4    (3)

式(3)中,R5是有机基团,多个R5可以相同,也可以不同。

5.如权利要求2所述的涂布型扩散剂组合物,其中,进一步含有以下述通式(3)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(B),

〔化3〕

Si(OR5)4    (3)

式(3)中,R5是有机基团,多个R5可以相同,也可以不同。

6.如权利要求3所述的涂布型扩散剂组合物,其中,进一步含有以下述通式(3)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(B),

〔化3〕

Si(OR5)4    (3)

式(3)中,R5是有机基团,多个R5可以相同,也可以不同。

7.如权利要求4所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)和缩合产物(B)的SiO2换算质量比、即A∶B为100∶0~5∶95。

8.如权利要求5所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)和缩合产物(B)的SiO2换算质量比、即A∶B为100∶0~5∶95。

9.如权利要求6所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)和缩合产物(B)的SiO2换算质量比、即A∶B为100∶0~5∶95。

10.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述杂质扩散成分(C)含有III族元素或V族元素的化合物。

11.如权利要求2所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述杂质扩散成分(C)含有III族元素或V族元素的化合物。

12.如权利要求3所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述杂质扩散成分(C)含有III族元素或V族元素的化合物。

13.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,相对于缩合产物(A)及缩合产物(B)中的总SiO2换算质量,所述杂质扩散成分(C)中的杂质原子的换算质量之比为SiO2换算质量∶杂质原子换算质量=95∶5~50∶50的范围。

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