[发明专利]涂布型扩散剂组合物有效
申请号: | 201110378630.9 | 申请日: | 2011-11-21 |
公开(公告)号: | CN102533101A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 森田敏郎;神园乔 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04;C09D183/07;C09D7/12;H01L21/22 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂布型 扩散 组合 | ||
1.一种涂布型扩散剂组合物,所述扩散剂组合物用于使杂质扩散成分扩散至半导体基板,其特征在于,含有:
以下述通式(1)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(A)、
杂质扩散成分(C)和
有机溶剂(D),
〔化1〕
R1mSi(OR2)4-m (1)
式(1)中,R1、R2是有机基团,多个R1、R2可以相同,也可以不同,m是0、1或2,其中,m=0的情况下,缩合化合物(A)由多个(1)形成,必定包含m=1或2的烷氧基硅烷。
2.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)包含用下述通式(2)表示的结构,
〔化2〕
式(2)中,X是烷氧基,Y是有机基团,n∶1为95∶5~0∶100的范围。
3.如权利要求2所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述Y是烷基、芳基、环氧基、或-R3-R4表示的基团,
多个X、Y可以相同,也可以不同,R4是芳基或含有乙烯性不饱和双键的基团,R3是碳原子数为1~9的亚烷基,也可以为具有不同的R3的情况。
4.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,进一步含有以下述通式(3)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(B),
〔化3〕
Si(OR5)4 (3)
式(3)中,R5是有机基团,多个R5可以相同,也可以不同。
5.如权利要求2所述的涂布型扩散剂组合物,其中,进一步含有以下述通式(3)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(B),
〔化3〕
Si(OR5)4 (3)
式(3)中,R5是有机基团,多个R5可以相同,也可以不同。
6.如权利要求3所述的涂布型扩散剂组合物,其中,进一步含有以下述通式(3)表示的烷氧基硅烷为起始原料的缩合产物(B),
〔化3〕
Si(OR5)4 (3)
式(3)中,R5是有机基团,多个R5可以相同,也可以不同。
7.如权利要求4所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)和缩合产物(B)的SiO2换算质量比、即A∶B为100∶0~5∶95。
8.如权利要求5所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)和缩合产物(B)的SiO2换算质量比、即A∶B为100∶0~5∶95。
9.如权利要求6所述的涂布型扩散剂组合物,其中,缩合产物(A)和缩合产物(B)的SiO2换算质量比、即A∶B为100∶0~5∶95。
10.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述杂质扩散成分(C)含有III族元素或V族元素的化合物。
11.如权利要求2所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述杂质扩散成分(C)含有III族元素或V族元素的化合物。
12.如权利要求3所述的涂布型扩散剂组合物,其中,所述杂质扩散成分(C)含有III族元素或V族元素的化合物。
13.如权利要求1所述的涂布型扩散剂组合物,其中,相对于缩合产物(A)及缩合产物(B)中的总SiO2换算质量,所述杂质扩散成分(C)中的杂质原子的换算质量之比为SiO2换算质量∶杂质原子换算质量=95∶5~50∶50的范围。
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C09D 涂料组合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充浆料;化学涂料或油墨的去除剂;油墨;改正液;木材着色剂;用于着色或印刷的浆料或固体;原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物;基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
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C09D183-14 .其中至少两个,但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接