[发明专利]用于制备薄膜太阳能电池透明导电膜的设备及方法

权利要求书

1.一种用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，包括真空腔室、溅射靶、基片架、电源，溅射靶和基片架安装在真空腔室内，其特征在于所述溅射靶和基片架之间设有阳极装置，该阳极装置的电位大于或等于基片架的电位。

2.根据权利要求1所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述阳极装置包括阳极棒和气流分散器。

3.根据权利要求2所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述阳极装置的阳极棒为一空心管，其一端与氩气相通，另一端封堵。

4. 根据权利要求2所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述阳极棒的壁上设有与气流分散器连接的孔。

5.根据权利要求2或4所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述气流分散器包括头部和柄部，头部设有多个通气孔，柄部插紧在阳极棒壁上的孔内。

6.根据权利要求4所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述阳极装置包括多个间隔排列的阳极棒，该阳极棒是圆管、方管或扁管。

7.根据权利要求5所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述阳极棒壁上的孔是光滑孔或螺纹孔。

8..根据权利要求4所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述阳极棒处于悬浮状态或与真空腔室连接。

9.根据权利要求7所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述气流分散器的柄部的外表面是光滑面或螺纹面，气流分散器的柄部装在阳极棒壁上的孔内。

10.根据权利要求1所述的用于制造薄膜太阳能电池透明导电膜的设备，其特征在于所述基片架的电位为-5V～-20V,溅射靶的电位为-100V～-600V。

11.一种制造薄膜太阳能电池透明导电膜的方法，装有基片的基片架传送至真空腔室，其特征在于将阳极装置安装在溅射靶和基片架之间，且阳极装置的电位大于或等于基片架的电位，

往真空腔室通入氩气或氩/氧混合气，

阳极装置中通入氩气或氩/氧混合气， 

启动溅射靶的电源，在基片上溅射镀制透明导电膜。

12.根据权利要求11所述的制造薄膜太阳能电池透明导电膜的方法，其特征在于所述阳极装置包括阳极棒和气流分散器，该阳极棒的壁上设有与气流分散器连接的孔。

13.根据权利要求12所述的制造薄膜太阳能电池透明导电膜的方法，其特征在于所述阳极棒处于悬浮状态或与真空腔室连接，且阳极棒的一端与氩气或氩/氧混合气相通，另一端封堵。

14.根据权利要求11所述的制造薄膜太阳能电池透明导电膜的方法，其特征在于所述基片架的电位为-5V～-20V,溅射靶的电位为-100V～-600V。

15.根据权利要求11所述的制造薄膜太阳能电池透明导电膜的方法，其特征在于所述透明导电膜为AZO膜。