[发明专利]光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种光硬化性组成物及由其所形成的膜，特别是涉及一种适用于形成液晶显示器(LCD)、有机电激发光显示器(Organic Electro-luminescene Display)等的基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材等保护膜的光硬化性聚硅氧烷组成物、由此光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜及具有此保护膜的元件。

背景技术

近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于光刻制程中所需的图案微细化更甚要求。为了达到微细化的图案，一般通过具有高分辨率及高感度的正型感光性材料经曝光及显影后而形成，其中，以聚硅氧烷高分子为成分的正型感光性材料相对无法在由浓度较低的碱性水溶液所构成的稀薄显影液下形成较佳微细化的图案，这是因为聚硅氧烷高分子为疏水性，无法有效地与浓度较低的碱性水溶液作用。

日本特开2008-107529号揭示一种可形成高透明度硬化膜的感光性树脂组成物。该组成物中使用含环氧丙烷基或丁二酸酐基的聚硅氧烷高分子，其于共聚合时经开环反应形成亲水性的结构，虽可于稀薄碱性显影液下得到高溶解性，然而，该感光性树脂组成物所形成的保护膜在经过后烤后，其所形成的图案却有易发生塌陷的问题发生。

由上述可知，目前仍有需要发展出一种可在由浓度较低的碱性水溶液所构成的显影液下使用，且后续所形成的保护膜在经过后烤后能形成不易塌陷图案的感光性树脂组成物。

发明内容

因此，本发明的第一目的，即在提供一种具有适当软化点且显影性佳的光硬化性聚硅氧烷组成物，其后续所形成的保护膜在经过后烤后，能形成不易塌陷的图案。

于是，本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于400～100,000的讯号(intensity)作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量介于10,000～80,000者占25～60wt％，且该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物的含量占光硬化性聚硅氧烷组成物的0～10wt％。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，其中该聚硅氧烷高分子(A)的碱溶解速率介于100～的范围内。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物，其中基于该聚硅氧烷高分子(A)含量为100重量份，该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的含量是0.5～80重量份及该溶剂(C)的含量是50～1200重量份。

本发明光硬化性聚硅氧烷组成物通过将具有10,000～80,000分子量的聚硅氧烷高分子(A)的含量控制在25～60wt％，且该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物含量为0～10wt％时，可使得该聚硅氧烷高分子(A)具有适当的软化点，而让该光硬化性聚硅氧烷组成物在经过高温烘烤时具备不易流动且易成型的特点，后续更可形成不易塌陷且具有较佳微细化的图案。

本发明的第二目的，即在提供一种适用于作为液晶显示器、有机电致发光显示器等的薄膜晶体管基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材等的保护膜。

本发明保护膜是将上述的光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。

本发明的第三目的，即在提供一种具有上述保护膜的元件。

本发明具有保护膜的元件包含基材以及形成于该基材上的保护膜。

本发明的有益效果在于：该光硬化性聚硅氧烷组成物通过使用聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)及溶剂(C)，并且控制该聚硅氧烷高分子(A)及其寡聚物的分子量分布及含量，以让该光硬化性聚硅氧烷组成物可具有较佳显影性及适当软化点。且透过该光硬化性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜更具备不易塌陷且较佳微细化的图案。

附图说明

图1是曲线图，说明本发明的聚硅氧烷高分子(A)于分子量分布检测时所使用的积分分子量分布曲线图，横向坐标为分子量，纵向坐标为累积重量百分率。

具体实施方式