[发明专利]光硬化性聚硅氧烷组成物及其所形成的基材保护膜有效
| 申请号： | 201110361741.9 | 申请日： | 2011-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN102540727A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 吴明儒;施俊安 | 申请（专利权）人： | 奇美实业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化性 聚硅氧烷 组成 及其 形成 基材 保护膜 | ||
1.一种光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，包含：
聚硅氧烷高分子(A)；
邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；及
溶剂(C)；
以凝胶渗透色层分析法测试该聚硅氧烷高分子(A)的分子量分布，将分子量介于400～100,000的讯号作积分，以分子量及累积重量百分率绘图求得积分分子量分布曲线，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量介于10,000～80,000者占25～60wt％，且该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物的含量占该光硬化性聚硅氧烷组成物的0～10wt％。
2.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，该聚硅氧烷高分子(A)的碱溶解速率介于100～的范围内。
3.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，基于该聚硅氧烷高分子(A)含量为100重量份，该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的含量是0.5～80重量份及该溶剂(C)的含量是50～1200重量份。
4.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物的含量占该光硬化性聚硅氧烷组成物的0.001～9wt％。
5.根据权利要求1所述的光硬化性聚硅氧烷组成物，其特征在于，该聚硅氧烷高分子(A)的分子量在800以下的寡聚物的含量占该光硬化性聚硅氧烷组成物的0.001～8wt％。
6.一种保护膜，其特征在于，将根据权利要求1至5中任一项所述的光硬化性聚硅氧烷组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。
7.一种具有保护膜的元件，其特征在于，包含：基材以及根据权利要求6所述的保护膜。
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