[发明专利]脉冲激光刻蚀双面ITO玻璃上导电膜层的装置及其方法

权利要求书

1.脉冲激光刻蚀双面ITO玻璃上导电膜层的装置，膜材（12）由夹紧气缸（13）夹紧固定，其特征在于：所述膜材（12）的正面和背面各布置一套相同的脉冲激光刻蚀装置，所述每套脉冲激光刻蚀装置均包含高频率短脉冲激光器（1）、扩束镜（3）、半透半反镜（4）、格兰棱镜（6）和全反镜（16），高频率短脉冲激光器（1）的输出端布置有光闸（2），光闸（2）的输出端设置有扩束镜（3），扩束镜（3）的输出端布置有半透半反镜（4），半透半反镜（4）的输出端布置有第一1/2波片（5）和全反镜（16），第一1/2波片（5）的输出端布置有第一格兰棱镜（6），第一格兰棱镜（6）的输出端布置有第一3D动态聚焦镜（7），第一3D动态聚焦镜（7）的输出端布置有第一振镜（8），全反镜（16）的输出端布置有第二1/2波片（17），第二1/2波片（17）的输出端布置有第二格兰棱镜（18），第二格兰棱镜（18）的输出端布置有第二3D动态聚焦镜（19），第二3D动态聚焦镜（19）的输出端布置有第二振镜（20），第一振镜（8）和第二振镜（20）的输出端均正对于膜材（12）的表面，膜材（12）的表面上布置有CCD对位观察系统（9），膜材（12）的一侧布置有吹气系统（11），另一侧安装有集尘系统（10），高频率短脉冲激光器（1）、第一振镜（8）和第二振镜（20）通过通讯系统（15）连接工控机（14）。

2.根据权利要求1所述的脉冲激光刻蚀双面ITO玻璃上导电膜层的装置，其特征在于：所述高频率短脉冲激光器（1）是波长为190nm～1100nm、脉宽在1ps～200ns、频率在10KHz～100MHz的激光器。

3.利用权利要求1所述装置实现脉冲激光刻蚀双面ITO玻璃上导电膜层的方法，其特征在于：高频率短脉冲激光器（1）发出的激光经过光闸（2）控制开关光，光闸（2）控制激光光束后经过扩束镜（3）对光束进行同轴扩束，改善光束传播的发散角，使光路准直，扩束镜（3）扩束准直后光束到达半透半反镜（4），使激光透过一半反射一半，透过的一半激光到达全反镜（16）后光路垂直改向将激光全部反射到第二1/2波片（17），第二1/2波片（17）的光束经第二格兰棱镜（18）和第二3D动态聚焦镜（19）到达第二振镜（20），第二振镜（20）将光束聚焦于膜材（12）的表面上，通过半透半反镜（4）反射下来的激光到达第一1/2波片（5），第一1/2波片（5）的光束经第一格兰棱镜（6）和第一3D动态聚焦镜（7）到达第一振镜（8），第一振镜（8）将光束聚焦于膜材（12）的表面上，扫描图形转化为数字信号，图形转化在膜材（12）的表面上进行刻蚀，膜材（12）由夹紧气缸（13）夹紧固定， CCD对位观察系统（9）将导入的定位标拍摄并抓取靶标，蚀刻产生的粉尘由吹气系统（11）产生气流，由集尘系统（10）收集粉尘。