[发明专利]一种自清洁玻璃及其制作方法

权利要求书

1.一种自清洁玻璃，包括玻璃基体以及修饰层，其特征在于，所述修饰层包括自所述玻璃基体起依次叠置在所述玻璃基体表面的SiO₂膜层、TiO₂/金属离子/光敏材料膜层以及TiO₂/金属离子膜层。

2.如权利要求1所述的自清洁玻璃，其特征在于，所述SiO₂膜层的厚度为80～120nm。

3.如权利要求1所述的自清洁玻璃，其特征在于，所述TiO₂/金属离子/光敏材料膜层的厚度为200～300nm。

4.如权利要求1所述的自清洁玻璃，其特征在于，所述TiO₂/金属离子膜层的厚度为80～120nm。

5.如权利要求1所述的自清洁玻璃，其特征在于，在所述TiO₂/金属离子/光敏材料膜层中，所述TiO₂、金属离子以及光敏剂的质量百分含量分别为：5～80％，5～40％，5～30％。

6.如权利要求1所述的自清洁玻璃，其特征在于，在所述TiO₂/金属离子膜层中，所述TiO₂和金属离子的质量百分含量分别为：30～90％和10～70％。

7.一种自清洁玻璃的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

获取硅溶胶，利用所述硅溶胶在玻璃基体的表面制作SiO₂膜层；

获取含有光敏半导体和金属离子的钛溶胶，利用所述含有光敏半导体和金属离子的钛溶胶涂覆在所述SiO₂膜层表面制作TiO₂/金属离子/光敏材料膜层；

获取含有金属离子的钛溶胶，利用所述含有金属离子的钛溶胶在所述TiO₂/金属离子/光敏材料膜层表面制作TiO₂/金属离子膜层。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述硅溶胶通过以下步骤获得：

将有机硅脂溶解在有机溶剂中，并在30～50℃的温度下搅拌获得有机硅脂溶液；

用强酸溶液和去离子水配制成强酸溶液；

将所述强酸溶液滴入所述有机硅脂溶液中，同时在30～50℃的温度下搅拌使所述有机硅脂水解；

将韧化剂加入水解的所述有机硅脂溶液中，搅拌均匀并冷却至室温，获得所述硅溶胶。

9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述有机硅脂的质量浓度为5～20％；所述强酸与所述有机硅脂的摩尔比为0.5～2.5；加入的所述韧化剂与所述有机硅酯的摩尔比为0.1～1.5。

10.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，利用提拉法制作所述SiO₂膜层，所述硅溶胶的固含量为1～5％，所述玻璃基体的提拉速度为1～10cm/min，从而将所述硅溶胶在粘附在所述玻璃基体表面。

11.如权利要求10所述的制作方法，其特征在于，粘附在所述玻璃基体表面的所述硅溶胶在60～100℃的温度下干燥10～30min，从而在所述玻璃基体的表面获得所述SiO₂膜层。

12.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述含有光敏半导体和金属离子的钛溶胶是通过以下步骤获得：

将有机钛脂溶于有机溶剂形成有机钛脂溶液；

向所述有机钛脂溶液中加入金属盐以及抑制剂，在30～50℃的温度下搅拌获得第一混合液；

用强酸、去离子水以及有机溶剂配置成第二混合液；

将所述第二混合液滴入所述第一混合液，同时在30～50℃的温度下搅拌获得含有金属离子的钛溶胶；

将光敏半导体粉末与强酸混合，然后加入所述含有金属离子的钛溶胶中，从而获得所述含有光敏半导体和金属离子的钛溶胶。

13.如权利要求12所述的制作方法，其特征在于，所述有机钛脂溶液的质量浓度为1～5％；所述有机钛脂与所述金属盐的摩尔比为0.1～1.5，所述抑制剂与所述金属盐的摩尔比为0.1～1.5；所述光敏半导体粉末与所述有机钛脂的摩尔比为0.1～2.5。