[发明专利]光掩模缺陷修正方法、图案转印方法、光掩模及其制造方法

权利要求书

1.一种光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正装置来修正光掩模中产生的多余缺陷，该光掩模是对形成于透明基板上的遮光膜进行图案加工而形成的，具有透光部和遮光部，该缺陷修正方法的特征在于，包括：

膜去除步骤，将位于透光部的所述多余缺陷、和与具有所述多余缺陷的透光部邻接的遮光部的遮光膜的一部分同时去除；以及

膜形成步骤，在通过所述膜去除步骤去除了遮光膜的一部分的所述遮光部中形成修正膜，

在所述膜形成步骤中进行的膜形成是针对如下的遮光部进行的，该遮光部的宽度大于通过所述缺陷修正装置的一次修正操作所能形成的最小膜形成宽度。

2.一种光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正装置来修正光掩模中产生的多余缺陷，该光掩模是对形成于透明基板上的遮光膜进行图案加工而形成的，具有透光部和遮光部，该缺陷修正方法的特征在于，包括：

第1膜去除步骤，将位于透光部的所述多余缺陷、和与具有所述多余缺陷的透光部邻接的遮光部的遮光膜的一部分同时去除；

膜形成步骤，在所述第1膜去除步骤中去除了遮光膜的一部分的所述遮光部、和与该遮光部邻接的第2透光部中形成修正膜；以及

第2膜去除步骤，去除所述第2透光部中形成的所述修正膜，

在所述第2膜去除步骤中进行的膜去除是针对如下的透光部进行的，该透光部的宽度大于通过所述缺陷修正装置的一次修正操作所能去除的最小膜去除宽度。

3.根据权利要求1或2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述多余缺陷的透光部的宽度小于通过所述缺陷修正装置的一次修正操作所能去除的最小膜去除宽度。

4.根据权利要求1或2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，使在所述膜形成步骤中形成的修正膜的边缘与所述邻接的遮光部的边缘一致。

5.根据权利要求1或2所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述多余缺陷包含所述修正膜。

6.一种光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正装置来修正光掩模中产生的缺失缺陷，该光掩模是对形成于透明基板上的遮光膜进行图案加工而形成的，具有透光部和遮光部，该缺陷修正方法的特征在于，包括：

膜形成步骤，在包括位于遮光部中的所述缺失缺陷、和与具有所述缺失缺陷的遮光部邻接的透光部的一部分在内的区域中形成修正膜；以及

膜去除步骤，去除在所述膜形成步骤中形成的所述透光部的修正膜，

在所述膜去除步骤中进行的膜去除是针对如下的透光部进行的，该透光部的宽度大于通过所述缺陷修正装置的一次修正操作所能去除的最小膜去除宽度。

7.一种光掩模的缺陷修正方法，使用缺陷修正装置来修正光掩模中产生的缺失缺陷，该光掩模是对形成于透明基板上的遮光膜进行图案加工而形成的，具有透光部和遮光部，该缺陷修正方法的特征在于，包括：

第1膜形成步骤，在包括位于遮光部中的所述缺失缺陷、和与具有所述缺失缺陷的遮光部邻接的透光部的一部分在内的区域中形成修正膜；

膜去除步骤，将在所述第1膜形成步骤中形成于所述透光部中的所述修正膜、和与该透光部邻接的第2遮光部的遮光膜的一部分同时去除；以及

第2膜形成步骤，在所述膜去除步骤中去除了遮光膜的一部分的所述第2遮光部中形成修正膜，

在所述第2膜形成步骤中进行的膜形成是针对如下的遮光部进行的，该遮光部的宽度大于通过所述缺陷修正装置的一次修正操作所能形成的最小膜形成宽度。

8.根据权利要求6或7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述缺失缺陷的遮光部的宽度小于通过所述缺陷修正装置的一次修正操作所能形成的最小膜形成宽度。

9.根据权利要求6或7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，使在所述膜去除步骤中去除的修正膜的边缘与所述透光部的边缘一致。

10.根据权利要求6或7所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，所述缺失缺陷包含通过所述缺陷修正方法去除了遮光膜的区域。

11.根据权利要求1、2、6和7中的任意一项所述的光掩模的缺陷修正方法，其特征在于，具有所述多余缺陷的透光部或者具有所述缺失缺陷的遮光部的线宽为1μm以下。