[发明专利]设计加热平板作升降动作以进行硅薄膜镀膜无效
申请号: | 201110297688.0 | 申请日: | 2011-09-28 |
公开(公告)号: | CN103014658A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 戴嘉男;刘幼海;刘吉人 | 申请(专利权)人: | 吉富新能源科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/46;C23C16/458 |
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地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 设计 加热 平板 升降 动作 进行 薄膜 镀膜 | ||
1.一种设计加热平板作升降动作以进行硅薄膜镀膜,其PECVD腔体内部设有传动轮轴及真空Pump,且也有Showerhead气流孔及RF电极,此外也有最重要的是本发明加热平板,其加热平板的加热方式是用micro heater进行加热,故可以让加热平板本身为均匀加热,此外这个加热平板下有一组线性马达轴承,这个马达是架设于腔体下,利用其Port与马达之间紧密结合而成,当加热平板欲作升降时,可以由电脑界面将马达开启并作升降,其方式主要是当TCO玻璃与金属平板一起放入Carrier内,并传送到PECVD腔体后,其加热平板利用马达控制轴承作升降,由于玻璃与金属平板一起接触到加热平板,此时加热的方式有传导热及辐射热两种,可以让玻璃均匀升温,且不易有玻璃翘曲的可能,随后当要开始制程时,其加热平板可以再作上升动作,使其玻璃与电极产生一适当的间距,此间距可依制程需要来做改变,而当RF power supply开启的时后,这个间距就可以得到均匀电浆,并可进行制程,当完成制程后,其加热平板则是透过线性马达轴承作下降动作,并让Carrier可以顺利传出,此发明兼顾着玻璃加热均匀不易翘曲外,也有让玻璃与电极产生适当的间距,以便进行电浆制程,故可以达到均匀的硅薄膜,并提高整体太阳能硅薄膜发电效率。
2.根据权利要求1所述的一种计加热平板作升降动作以进行硅薄膜镀膜,其加热平板内设有线性马达轴承,此线性马达轴承与腔体port是紧闭一起,故不会造成腔体在抽真空时有漏气的可能,并可以达到腔体内部真空值。
3. 根据权利要求1所述的一种计加热平板作升降动作以进行硅薄膜镀膜,其加热平板内部所设计的线性马达轴承,其内部有一组micro heater,其可以针对加热平板进行加热,且其micro heater是为传导热,故加热平板在加热恰当时间后,其温度为均匀,故可以当玻璃与金属平板加热时,可以让玻璃达到均匀的加热,以便能够进行制程。
4. 根据权利要求1所述的计加热平板作升降动作以进行硅薄膜镀膜,其加热平板两侧设有弹簧轴承,其弹簧轴承可以透过电脑界面作升降的动作,此升降动作主要是要让加热平板作升降,可以将玻璃顶升到离电极有一适当的间距,可以依制程需求来作调整,并可以当RF power supply开启时得到均匀的电浆,以便进行硅薄膜镀膜。
5. 根据权利要求1所述的计加热平板作升降动作以进行硅薄膜镀膜,其玻璃在加热平板顶升后,其加热平板与金属平板及玻璃接触,故玻璃不会有翘曲状况,且在镀膜时,因有一固定间距,故气流孔流入气体到showerhead后,扩散到腔体内部,此时固定的间距可以让RF power supply开启电浆,并且可以得到均匀电浆进行镀膜,完成后,此加热平板可以作下降动作,并让玻璃可以传出到出口端破真空,来完成制程,本发明的设计,可以让玻璃有一均匀的加热,且可以有一恰当的电极间距,故能够得到均匀的硅薄膜,并且可以提高太阳能硅薄膜电池的发电效率。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的