[发明专利]大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机

说明书

技术领域

本发明属于高真空连续卷绕镀膜机技术领域，具体涉及大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机。

背景技术

高真空连续镀膜机，一直以来热蒸发镀膜机占有主导地位。其主要应用如食品包装镀铝膜，电容器膜，工业金属薄镀保护膜。近年来柔性基材热蒸发镀膜工艺有了新的应用，包括镀制光学膜，催化膜，高阻隔膜等新型功能膜，热蒸发连续镀膜机具有生产效率高的特点，但是所膜层均匀性差，结构相对简单。随着现代工业技术的发展，对于柔性基材的镀膜需求越来越大。对所镀膜层的功能性要求越来越高，膜系结构越来越复杂。磁控溅射卷绕镀膜机获得了巨大的发展，而使用磁控溅射工艺在塑料薄膜上镀膜时，由于其热载荷相对较大，有容易引起薄膜起皱的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机，能够在塑料基材上镀多层膜，且不易使塑料基材起皱。

本发明的技术方案如下：一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机，包括圆形真空室、柔性基材卷绕系统以及磁控溅射源，其中，圆形真空室固定，柔性基材卷绕系统和磁控溅射源可以分别从圆形真空室的两侧伸入或拖出圆形真空室，圆形真空室由隔离板分隔成放卷区、前处理区以及收卷区，且这三个区都单独通过真空阀门与扩散泵连接，在收卷区中还设有半圆环空腔状的镀膜区，其位于圆形真空室下方中部的，并分隔成若干个单独的空腔，且每个空腔都单独连接有分子泵；柔性基材卷绕系统包括冷鼓、基材放卷、基材收卷以及过辊机构，其中，冷鼓伸入与冷鼓外壁相匹配的半圆环镀膜区的内环壁中，在放卷区和收卷区左右对称设有基材放卷与基材收卷，在基材放卷、冷鼓以及基材收卷附近设有过辊机构，可以实现基材从基材放卷经过冷鼓后进入基材收卷，磁控溅射源包括若干个与镀膜区空腔相对应的溅射源，并从与柔性基材卷绕系统相对的方向伸入到圆形真空室中镀膜区相对应的若干个独立空腔中，对经过冷鼓的基材进行镀膜。

所述的过辊机构包括基材放卷释放基材方向上设有的过辊A，以及放卷区和前处理区之间隔离板的上下两侧设有的张力测量辊和过辊D，且在该隔离板中间还设有过辊C，同时，在冷鼓上方依次设置有进料张力辊、展平辊B、展平辊A和出料张力辊，且进料张力辊与出料张力辊左右对称，展平辊B和展平辊A左右对称，在基材收卷收卷基材的方向上还依次设有过辊E、过辊B以及过辊F。

所述的从基材放卷出来的基材经过保证基材对张力测量辊包角角度的过辊A进入张力测量辊，从张力测量辊出来的基材经过过辊C进出前处理区，基材依次经过过辊D、进料张力辊以及展平辊B进入冷鼓，从冷鼓出来的基材依次经过展平辊A、出料张力辊、过辊F、过辊E和过辊B后进入基材收卷，其中，进料张力辊和出料张力辊都与冷鼓具有一定的相对速度差，可以使基材较好地贴合在冷鼓表面；展平辊B和展平辊A可以保证基材在进入冷鼓前展平。

所述的过辊D可以保证经过过辊C和过辊D之间的基材是水平的，且在该水平面下方设有前处理离子源，可以对基材表面进行清洗，提高膜层与基材的结合力。

所述的过辊F和过辊B之间设有产品型号为CTR的在线监测系统，可以对镀膜完成的基材进行光学性能的实时测量，测量膜的光学投射和发射参数。

所述的放卷区还设有深冷水蒸气捕集盘管。

所述的镀膜区半圆环空腔分为六个独立的空腔，且磁控溅射源包括六个与镀膜区空腔相对应的溅射源。

所述的冷鼓连接有冷热水循环。

本发明的显著效果在于：本发明所述的一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机成本低、生产效率高，能够在塑料基材上一次完成多层膜系的镀膜，且不易使塑料基材起皱；同时，圆形真空室固定，柔性基材卷绕系统和磁控溅射源可以分别从圆形真空室的两侧伸入或拖出到圆形真空室，使设备操作维护方便。

附图说明

图1为本发明所述的一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机抽气和气隔离系统结构示意图；

图2为本发明所示的一种大面积柔性基材磁控溅射卷绕镀膜机截面示意图；

图中：1、放卷区；2、前处理区；3、收卷区；4、镀膜区；5、分子泵；6、扩散泵；7、真空阀门；8、隔离板；9、深冷水蒸气捕集盘管；10、冷鼓；11、溅射源；12、进料张力辊；13、前离子处理源；14、过辊A；15、基材放卷；16、展平辊A；17、基材收卷；18、过辊B；19、在线监测系统；20、张力测量辊；21、出料张力辊；22、过辊C；23、过辊D；24、过辊E、25、过辊F；26、展平辊B。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细说明。