[发明专利]新型电容式触摸屏及其制造方法和触摸屏终端有效

专利信息
申请号: 201110252555.1 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN102279682A 公开(公告)日: 2011-12-14
发明(设计)人: 许生;宋涛 申请(专利权)人: 深圳市豪威薄膜技术有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 新型 电容 触摸屏 及其 制造 方法 终端
【说明书】:

技术领域

发明属于触摸屏生产技术领域,更具体地说,是涉及一种新型电容式触摸屏及其制造方法和触摸屏终端。

背景技术

随着消费移动通信设备越来越多地采用数字方式和集成更多的功能,开发直观的创新型用户接口(UI)方案变得更为重要。作为用户接口设计的一部分,投射式电容触摸屏有助于应对这一挑战。2007年6月29日,万众瞩目的iPhone手机在全球掀起一波又一波的触控面板热潮,而且,也引起了触摸屏产品在消费性电子产品的应用的大幅增加,各项电子产品使用触控面板的渗透率也迅速提高。iPhone手机使用的是电容式触摸屏。新型电容式触摸屏的使用原理是:根据接触区域的电容量变化来判断手指触摸点的位置,可以对多点触摸等复杂的手势可以提供完善的支持。由于对外界的感应需要通过一层不导电的介电质(塑胶、玻璃等),触摸屏需要贴合在上盖背面,所以对外界的抗干扰能力较强,可靠性和耐用性高。是将来中小型电子产品的首选触摸屏种类,因此触摸屏元件的市场需求量很大。

但是,请参见图1,由于iPhone电容屏的结构为所谓的两层,即一片由玻璃制成的感测器(Sensor)1′和一层面板玻璃2′,然后用光学胶3′(或者胶水)贴合而成。上层的面板玻璃2′仅仅是保护作用及装饰作用,起功能作用的是感测器(Sensor)1′部分,而感测器(Sensor)1′为一块0.55mm或0.7mm厚度的玻璃11′,玻璃的两个表面中间部位都分别有刻蚀成图形的ITO镀层12′,周边为Mo-Al-Mo的镀层刻蚀成导线的引线13′,此引线13′能将触控信号导出。

此种结构电容屏的导致其生产过程中只能采用TFT的工艺,即所谓的镀膜-曝光-显影-蚀刻工艺。此种工艺不论是中间的ITO菱形图案层还是周边的引线部分,均需要采用所谓的黄光线,即必须有黄光制程,其黄光制程的设备资金投入极大,而且设备调试困难,设备从投入到产出周期很长,造成产品整体成本过高,这也是电容屏没有大范围的取代电阻屏的重要原因之一。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种新型电容式触摸屏,旨在避免其制作过程中因需采用薄膜场效应晶体管(TFT)工艺而带来黄光制程需要的设备资金投入大、产出周期长的问题,降低电容屏的生产成本。

为解决上述技术问题,本发明的采用的技术方案是:提供一种新型电容式触摸屏,包括一层面板玻璃,还包括两层镀有ITO导电图案层和银浆电极的PET薄膜结构件,两层所述PET薄膜结构件和一层所述面板玻璃依次通过光学胶贴合在一起。

具体地,所述ITO导电图案层的图案为菱形。

优选地,所述光学胶的厚度为50μm~100μm、透光率为95%以上。

优选地,所述面板玻璃为异型钢化玻璃。

本发明提供的新型电容式触摸屏的有益效果在于:本发明触摸屏由三层构成,最上面一层为强化玻璃,中间一层为高透过率的镀有ITO导电图案层及银浆电极的PET薄膜(film)结构件,最下面一层也是镀有ITO导电图案层及银浆电极的PET薄膜(film)结构件,即采用ITO film来代替传统电容屏中的ITOglass,且这三层之间用光学胶粘合在一起。该种结构的触摸屏在制造过程中制作ITO图案及周边引线时均不需要采用黄光制程,因此避免了黄光制程所述需要的大量的设备资金投入、设备调试困难、投入周期长、整体生产成本过高的问题,大大降低其生产成本,有利于电容触摸屏的推广应用,从而大范围地取代电阻触摸屏。

本发明还提供了一种上述所述的新型电容式触摸屏的制造方法,该制造方法包括以下步骤:

(1)在PET基膜上制备一层ITO导电膜,所述ITO导电膜的方块电阻控制在150Ω/□以下;

(2)采用丝网印刷技术在ITO导电膜上印制遮盖油墨图案层;

(3)用酸蚀刻掉没有被油墨遮盖部分的ITO导电膜;

(4)去掉所述遮盖油墨图案层,形成电容屏需要的ITO导电图案层;

(5)采用丝网印刷技术印制银浆电极并得到PET薄膜结构件;

(6)将两片所述步骤(5)制作形成的PET薄膜结构件和一片面板玻璃依次用光学胶贴合在一起,形成结构完整的新型电容式触摸屏。

优选地,所述步骤(1)中,在PET基膜上制备ITO导电膜的工艺为磁控溅射镀膜法。

具体地,所述步骤(2)和(4)中,所述遮盖油墨图案和ITO导电图案层的图案为菱形。

优选地,所述步骤(6)中,光学胶的厚度为50μm~100μm、透光率为95%以上。

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