[发明专利]一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法无效
申请号: | 201110223870.1 | 申请日: | 2011-08-05 |
公开(公告)号: | CN102321724A | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 李晓彤;吴振华 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C12Q1/02 | 分类号: | C12Q1/02;G01N33/53 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 筛选 细胞 纺锤体 检验 抑制剂 方法 | ||
1.一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于包括以下步骤:
1)将Hela细胞置于细胞培养皿上在培养液中培养;
2)当细胞密度达到80%~90%时,加入诺考达唑处理,收集从培养板上脱落的有丝分裂细胞并将其转移到96孔板或384孔板上;
3)随后加入待测化合物,阴性对照组加入细胞培养液,培养;
4)洗去未贴壁细胞,加入细胞培养液反应;
5)去掉细胞培养液,加入二甲基亚砜,溶解步骤4)中形成的甲瓒结晶,再检测OD570读值;
6)当待测化合物所对应孔的OD570与阴性对照孔的OD570之间比值大于2时,该待测化合物可被认为是潜在的纺锤体检验点抑制物;
7)进行第二轮筛选,以排除潜在的纺锤体检验点抑制物中的假阳性,其具体方法是重复上述步骤1)和2),并在原步骤2)中多加入终浓度为10~20uM的MG132;
8)加入从步骤6)中筛选出来的潜在纺锤体检验点抑制物,阴性对照孔加入等量的DMEM细胞培养液培养;
9)重复上述步骤4)和5);
10)潜在的纺锤体检验点抑制物所对应孔的OD570与阴性对照孔的OD570之间比值在0.6~1.2之间,该化合物可被认为是纺锤体检验点抑制物,可被用于做进一步的分析。
2.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤1)中,所述培养液采用DMEM细胞培养液,所述培养是在37℃,5%CO2的条件下培养。
3.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤2)中,所述处理的时间为12~16h。
4.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤2)中,所述加入诺考达唑的终浓度为50~200ng/ml。
5.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤3)中,所述加入待测化合物的量,按体积比,培养液∶待测化合物为1000∶1。
6.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤3)中,所述细胞培养液为等量的DMEM细胞培养液,所述培养是在37℃下细胞培养箱中培养4~6h。
7.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤4)中,所述洗去未贴壁细胞是用PBS洗去未贴壁细胞,最好重复2~3次。
8.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤4)中,所述细胞培养液采用含0.5mg/ml 3-(4,5-cimethylthiazol-2-yl)-2,5-diphenyl tetrazolium Bromide;3-(4,5-二甲基噻唑-2)-2,5-二苯基四氮唑溴盐的细胞培养液;所述细胞培养液的加入量为待测化合物的10~20倍,所述反应的温度为37℃,反应的时间为2~4h。
9.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤5)中,所述加入二甲基亚砜的量为每孔加入100μl。
10.如权利要求1所述的一种筛选细胞纺锤体检验点抑制剂的方法,其特征在于在步骤8)中,所述加入从步骤6)中筛选出来的潜在纺锤体检验点抑制物的量与步骤3)所加入的待测化合物的量相同;所述培养,是在37℃下细胞培养箱中培养4~6h。
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