[发明专利]掩模、容器和制造装置有效

专利信息
申请号: 201110099753.9 申请日: 2004-04-12
公开(公告)号: CN102174688A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 山崎舜平;坂田淳一郎;桑原秀明 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L21/203;H01L21/308;H05B33/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 吴娟;庞立志
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 掩模 容器 制造 装置
【权利要求书】:

1.用于制造发光装置的方法,其包括:

在蒸镀源托座中设置具有贮存第一蒸镀材料的第一开口的第一容器和具有贮存第二蒸镀材料的第二开口的第二容器;

加热所述第一容器和所述第二容器;和

在混合所述第一蒸镀材料和所述第二蒸镀材料时,在基板上共蒸镀包含所述第一蒸镀材料和所述第二蒸镀材料的EL层,

其中以不同的方向设置所述第一开口和所述第二开口,

其中所述第一蒸镀材料的蒸镀中心和所述第二蒸镀材料的蒸镀中心是交叉的。

2.用于制造发光装置的方法,其包括:

在蒸镀源托座中设置具有贮存第一蒸镀材料的第一开口的第一容器和具有贮存第二蒸镀材料的第二开口的第二容器;

通过第一加热器加热所述第一容器;

通过第二加热器加热所述第二容器;

在混合所述第一蒸镀材料和所述第二蒸镀材料时,在基板上共蒸镀包含所述第一蒸镀材料和所述第二蒸镀材料的EL层,

其中以不同的方向设置所述第一开口和所述第二开口,

其中所述第一蒸镀材料的蒸镀中心和所述第二蒸镀材料的蒸镀中心是交叉的。

3.用于制造权利要求1或2的发光装置的方法,其中所述基板在所述共蒸镀步骤期间是固定的。

4.用于制造权利要求1或2的发光装置的方法,其中在均匀混合所述第一蒸镀材料和所述第二蒸镀材料时进行所述共蒸镀步骤。

5.用于制造权利要求1或2的发光装置的方法,其中所述基板和所述蒸镀源托座之间的距离为0.3米以下。

6.制造装置,其是包含载入室、与所述载入室相连的运送室、与所述运送室相连的多个成膜室和与所述成膜室相连的蒸镀室的制造装置,其特征在于,

所述多个成膜室与用于将所述成膜室内部排真空的排气室相连,所述多个成膜室包含固定基板用装置、掩模、固定该掩模用框架、对准该掩模和基板用的对准装置、1个或2个蒸镀源、使该蒸镀源在所述成膜室内部移动的装置和加热基板用装置,和

所述掩模的端部是粘结在与通过所述框架构件的热膨胀中心的线重合的位置上的。

7.制造装置,其是包含载入室、与所述载入室相连的运送室、与所述运送室相连的多个成膜室和与所述成膜室相连的蒸镀室的制造装置,其特征在于,

所述多个成膜室与用于将所述成膜室内部排真空的排气室相连,所述多个成膜室包含固定基板用装置、掩模、固定该掩模用框架、对准该掩模和基板用的对准装置、1个或2个蒸镀源、使该蒸镀源在所述成膜室内部移动的装置和加热基板用装置,和

用于贮存置于所述蒸镀源中的蒸镀材料的容器的平面的截面是长方形或正方形的,而且开口部分是细长形状的。

8.权利要求6或7的制造装置,其特征在于,所述成膜室和所述蒸镀室包含能将材料气或清洗气体引入的装置并且与用于使所述室内部排真空的排气室相连。

9.权利要求6或7的制造装置,其特征在于,所述蒸镀源在所述成膜室内可沿X方向、Y方向或Z方向移动。

10.权利要求6或7的制造装置,其特征在于,在所述成膜室中设置用于将所述成膜室内部分割并阻止向所述基板上的蒸镀的开合门。

11.权利要求7的制造装置,其特征在于,所述容器是由上部分和下部分构成的,并且来自所述蒸镀源的蒸镀材料的蒸发是通过所述容器上部分中的开口部分的形状来调节的。

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