[发明专利]一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法有效
申请号: | 201110043860.X | 申请日: | 2011-02-23 |
公开(公告)号: | CN102173813A | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 王玉金;陈磊;周玉;贾德昌 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | C04B35/58 | 分类号: | C04B35/58;C04B35/622 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 韩末洙 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 含硼化锆复相 陶瓷材料 制备 方法 | ||
1.一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于制备含硼化锆复相陶瓷材料的方法是通过以下步骤实现的:一、将氧化锆与含硼化合物按体积比为3~8∶2~7混合或将氧化锆与含硼组合物按体积比为3~8∶2~7混合,放在球磨机中,以蒸馏水、无水乙醇、丙酮或体积分数为98%的乙醇为分散介质,湿法球磨12~48h,形成复合粉末;二、将复合粉末在100~150℃温度下干燥10~48h,然后将干燥后的粉末破碎过200目筛,得到均匀的混合粉末;三、将步骤二得到的混合粉末模压或冷等静压后,再进行无压烧结、热压烧结或热等静压烧结,得到含硼化锆复相陶瓷材料;其中步骤一中含硼化合物为碳化硼;含硼组合物为二元含硼组合物或三元含硼组合物,所述二元含硼组合物为碳化硼和硼的组合、碳化硼和氧化硼的组合、氧化硼和碳的组合或氧化硼和碳化硅的组合,所述三元含硼组合物为氧化硼、碳化硼和碳的组合,氧化硼、硼和碳的组合,氧化硼、碳化硼和硼的组合,氧化硼、碳化硅和硼的组合或氧化硼、碳化硅和碳的组合。
2.根据权利要求中1所述的一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于步骤一中含硼组合物中的碳为单质碳或者由有机物经高温裂解生成;其中所述有机物为酚醛树脂、脲醛树脂、环氧树脂或者沥青中的一种或其中几种的组合。
3.根据权利要求中1或2所述的一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于步骤二中还可以向复合粉末中添加氧化物、碳化物或氮化物中的一种或其中几种的组合。
4.根据权利要求中3所述的一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于氧化物为氧化硅、氧化钙、氧化铈、氧化钇、氧化镱中的一种或其中几种的组合;碳化物为碳化硅,碳化锆、碳化钛、碳化铬、碳化铪中的一种或其中几种的组合;氮化物为氮化铝、氮化硅、氮化锆、氮化钛、氮化硼中的一种或其中几种的组合。
5.根据权利要求1所述的一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于步骤三中无压烧结按以下操作进行:在真空、氮气或氩气气氛下,于室温下升温至烧结温度1400~2000℃区间内,升温速率为10~15℃/min,在烧结温度点处保温0.5~10h,然后再降温至室温,降温速率为15~20℃/min。
6.根据权利要求1所述的一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于步骤三中热压烧结按以下操作进行:在真空、氮气或氩气气氛下,于室温升温至烧结温度点1400~2000℃区间内,升温速率为10~20℃/min,在烧结温度点处保温0.5~4h,当到达烧结温度点时,加压至20~30MPa,然后再降温至室温,降温速率为15~20℃/min。
7.根据权利要求1所述的一种含硼化锆复相陶瓷材料的制备方法,其特征在于步骤三中热等静压烧结按以下操作进行:在等静压的压力为200~300MPa,烧结温度为1400~2000℃区间内,保温0.5~4h。
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