[发明专利]感光性树脂组合物、感光性干膜及图案形成方法

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，其包含：

将包含具有酚性羟基的单体(a)和含有羧基的乙烯基系单体(b)的单体混合物进行聚合而得的乙烯基系共聚物(I)；

醌二叠氮化合物(II)；以及

下述式(5)所示的化合物(III)，

Y为碳原子数1～6的直链或支链的烃基；l和m各自独立地为1～3的整数；n为1或2；p和q分别为0或1。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，所述化合物(III)为选自由下述式(5－1)和(5－2)所示的化合物所组成的组中的至少一种化合物，

3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，所述化合物(II)的含有比例相对于乙烯基系共聚物(I)100质量份为5～70质量份，所述化合物(III)的含有比例相对于乙烯基系共聚物(I)100质量份为0.5～10质量份。

4.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，所述醌二叠氮化合物(II)为具有1～3个芳香族环的芳香族多羟基化合物与选自由1,2－萘醌二叠氮基－5－磺酸和1,2－萘醌二叠氮基－4－磺酸所组成的组中的至少一种化合物所成的酯。

5.根据权利要求4所述的感光性树脂组合物，所述醌二叠氮化合物(II)为下述式(4－1)所示的化合物、下述式(4－2)所示的化合物或下述式(4－3)所示的化合物与选自由1,2－萘醌二叠氮基－5－磺酸和1,2－萘醌二叠氮基－4－磺酸所组成的组中的至少一种化合物所成的酯，

6.一种感光性干膜，其在支持膜的表面上形成有由权利要求1～5的任一项所述的感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜。

7.一种图案形成方法，其包括以下工序：

在基材的表面上形成由权利要求1～5的任一项所述的感光性树脂组合物形成的抗蚀剂膜的工序；

将所述抗蚀剂膜曝光而形成潜像的工序；以及

将形成有潜像的所述抗蚀剂膜用pH 10.5～12.5的显影液进行显影处理而形成抗蚀剂图案的工序。