[发明专利]用于在微光刻中使用的分面反射镜

说明书

引用德国专利申请DE102010001388.9的在其全部范围内的内容。

本发明涉及用于在微光刻中使用的分面反射镜。此外，本发明涉及包含 该类型的至少一个分面反射镜的、用于照明物场的、用于微光刻的照明光学 单元，包含该类型的照明光学单元的照明系统，包含该类型的照明系统的投 射曝光设备，用于设定该类型的投射曝光设备中的照明光学单元的方法，使 用以该方式设定的投射曝光设备的用于制造微或纳米结构组件的方法，以及 通过该类型的制造方法制作的图案化的元件。

从US2004/0108467A1已知包含引言中提及的类型的分面反射镜的投 射曝光设备。

本发明的目的是开发引言中提及的类型的分面反射镜，该分面反射镜以 这样的方式被开发：与现有技术相比，与将在分面反射镜的使用期间实现的 期望的照明预定符合的给定要求以更低的制造费用实现。

借由包含权利要求1中描述的特征的分面反射镜实现本发明的该目的。

已经认识到，根据本发明的调节装置导致非常精细地影响分配给单独的 分面的照明通道的、在可调的分面的反射之后的预定方向的可能性。对于方 向精度影响的给定要求，调节装置的要求对应地是低的。调节装置可具有开 环或闭环控制单元。具有根据本发明的调节装置的分面反射镜可实现为场分 面反射镜或光瞳分面反射镜。即使当移动方向与分面反射平面的法线偏离 时，仍提供具有垂直于分面反射平面的运动分量的移动性。例如，在由调节 装置给出的分面的移动方向和分面反射平面的法线之间，可存在在5°的范 围内的角度。更小的角度，例如3°、2°或1°的角度，也是可能的。精确 地垂直于分面反射平面的移动也是可能的。最后，在移动方向和分面反射平 面的法线之间的角度也可大于5°。

特别地，在EUV微光刻中可使用根据本发明的分面反射镜。替代地， 也可能在其他波长（例如在UV或VUV波长，例如在193nm的照明波长） 使用分面反射镜。在下面解释的根据本发明的其他的部件也可在这些其他的 波长使用。

在如在权利要求2中所述的分面的情况中，根据本发明的调节装置是非 常有效的，因为产生借由调节装置由分面的移动引起的偏转角度的线性相关 度，并且因此产生经由移动的分面引导的照明通道的预定方向的对应相关 度。

具有在毫米范围内的相对大的调节距离的如在权利要求3中所述的调节 装置，在实际适配的尺寸的情况下，引起在照明通道预定方向的充分变化， 以及因此引起光学单元的将被限定的照明参数的充分的调节摆动，该光学单 元包含作为组成部分的根据本发明的具有调节装置的分面反射镜。更大的调 节距离也是可能的。特别是当调节距离大于1mm可借由调节装置实现时， 可以有目标的方式利用相邻分面之间遮光效应。

如在权利要求4中所述的定位精度已经被发现在实际中是充足的。利用 传统的调节机构，以及利用传统的调节致动器（例如压电致动器或主轴致动 器），这样的定位精度是可以得到的。定位精度可好于10μm。

如在权利要求5中所述的压电致动器可以堆叠的压电陶瓷元件实现。利 用对应的压电致动器，分面的倾斜的调节也是可能的。用于预定分面的初始 位置，参考表面可出现在分面的区域中。

如在权利要求6中所述的主轴驱动器构成关于压电致动器的变形，该变 形也可微机械地实现。借由用于主轴驱动器的旋转驱动器的旋转定位的精 度，以及借由螺距，可以首先预定总调节距离，以及其次预定主轴驱动器的 定位精度。主轴驱动器可实现为具有差动螺纹的精度驱动器。

如在权利要求7中所述的照明光学单元的优点对应于在上面已经解释过 的与根据本发明的分面有关的优点。根据本发明的照明光学单元可为用于在 EUV微光刻中使用的照明光学单元。

在如在权利要求8中所述的照明光学单元的情况中，物场上的照明角度 分布和物场上的照明强度分布二者都可精细地适配于预定的值。

如在权利要求9中所述的照明系统的优点和如在权利要求10中所述的 投射曝光设备的优点，对应于上面参考根据本发明的照明光学单元和根据本 发明的分面反射镜已经解释过的优点。利用投射曝光设备，可以实现具有高 结构分辨率的微结构或纳米结构组件（例如半导体芯片）。投射曝光设备的 光源可为EUV光源，例如用于产生具有193nm的波长的照明光的UV光源 或VUV光源。