[发明专利]新的化合物及其制造方法、含有该新的化合物的射线敏感性组合物以及固化膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种可用作光聚合引发剂的新的化合物及其制造方法、含有该新的化合物的射线敏感性组合物以及固化膜。

背景技术

由射线敏感性组合物所形成的固化膜，被广泛应用于液晶装置、半导体器件、光固化性油墨、感光性印刷版等。该射线敏感性组合物，例如含有具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、光聚合引发剂等。上述固化膜可以通过将该射线敏感性组合物涂布在玻璃基板等上，形成涂膜，接着使用具有水银灯的曝光装置进行曝光而形成。

上述水银灯，在紫外线～可见光波长区域中具有水银特有的辉线光谱，在254nm、365nm、405nm等中具有高强度的辉线。例如，日本特开2001-233842号公报公开了有效利用365nm和405nm辉线的高射线敏感度的光聚合引发剂的技术。该高射线敏感度的光聚合引发剂大多为在可见光区域具有最大吸收的化合物，因此大多数情况下，光聚合引发剂本身带有微红色。由以往的这种带有微红色的光聚合引发剂所形成的固化膜与光聚合引发剂同样呈现出微红色，并且透明性下降，因此在用于液晶器件等在可见光区域中必须具有高透光性的固化膜中，有时无法适用。

另一方面，例如日本特开昭58-157805号公报所公开的苯乙酮类引发剂，在300nm附近具有最大吸收，并且该光聚合引发剂本身大致呈现出白色，因此由该苯乙酮类引发剂所形成的固化膜在可见光区域中显示出高透明性。然而，该苯乙酮类引发剂的射线敏感度低，为了形成具有充分表面硬度的固化膜，需要高曝光量。此外，该苯乙酮类引发剂的升华性高(例如，参见日本特开2007-86565号公报)，其存在有因升华而导致烘焙炉污染以及在曝光时污染光掩模的缺陷。

鉴于这种情况，希望开发一种升华性低且在用作光聚合引发剂时显示出高射线敏感度的化合物、含有该化合物的射线敏感性组合物以及具有高透明性和表面硬度的固化膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-233842号公报

专利文献2：日本特开昭58-157805号公报

专利文献3：日本特开2007-86565号公报

专利文献4：美国公开2003-225179号公报

发明内容

本发明基于上述情况而完成的，其主要目的是提供一种升华性低且在用作光聚合引发剂时具有高射线敏感度的化合物及其制造方法。并且，本发明的另一目的是提供一种在使用该化合物作为光聚合引发剂时，可以形成具有高透明性和表面硬度的固化膜的射线敏感性组合物。

用于解决上述问题的的发明是一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团，

式(1’)中，R¹和R²各自独立地为碳原子数为1～6的烷基。n为1～6的整数。

本发明的化合物，由于具有两个以上的上述式(1’)所表示的基团，并且存在两个以上产生自由基的部位，因此在用作光聚合引发剂时，表现出高射线敏感度，结果通过较少的曝光量就可以得到具有准确的图案和充分的表面硬度的固化膜。此外，由于该化合物具有低升华性，因此能够有效抑制因升华而对设备和光掩模所产生的污染。进而，在使用该化合物作为光聚合引发剂时，可以得到具有高透明性的固化膜。

作为本发明的化合物，优选为下述式(1)所表示的化合物，

式(1)中，R¹、R²和n与上述式(1’)同义。X为式(2)(i)～(iv)所表示的2价基团中的任一种。

式(2)(i)中，m为1～6的整数。式(2)(iii)中，R³和R⁴各自独立地为氢原子、碳原子数为1～12的烷基或碳原子数为1～6的烷氧基。

通过该化合物具有上述式(1)所表示的特定结构，在用作光聚合引发剂时，表现出了更高的射线敏感度。此外，该化合物具有更低的升华性。进而，使用该化合物作为光聚合引发剂时，可以得到具有更高透明性的固化膜。

使用作为上述化合物的光聚合引发剂作为[A]成分，进而包含具有乙烯性不饱和双键的聚合性化合物作为[B]成分，由此形式可以构成射线敏感性组合物。这种射线敏感性组合物，由于含有上述化合物，因此具有高射线敏感度，并且显示出低升华性。此外，由这种射线敏感性组合物，可以得到具有高表面硬度和透明性的固化膜。