[发明专利]新的化合物及其制造方法、含有该新的化合物的射线敏感性组合物以及固化膜

权利要求书

1.一种化合物，其具有相同或不同的下述式(1’)所表示的多个基团，

(式(1’)中，R¹和R²各自独立地为碳原子数为1～6的烷基，n为1～6的整数)。

2.如权利要求1中所述的化合物，其由下述式(1)所表示，

(式(1)中，R¹、R²和n与上述式(1’)同义，X为式(2)(i)～(iv)所表示的2价基团中的任一种，

式(2)(i)中，m为1～6的整数，式(2)(iii)中，R³和R⁴各自独立地为氢原子、碳原子数为1～12的烷基或碳原子数为1～6的烷氧基)。

3.一种射线敏感性组合物，其含有[A]作为光聚合引发剂的权利要求1或2中所述的化合物，以及[B]具有乙烯性不饱和双键的聚合性化合物。

4.如权利要求3中所述的射线敏感性组合物，其进一步含有[C]碱可溶性树脂。

5.一种固化膜，由权利要求3或4中所述的射线敏感性组合物所形成。

6.如权利要求2中所述的化合物的制造方法，其包括在碱存在下，使下述式(3)所表示的前体化合物和从下述群组中选出的至少一种进行反应的工序，该群组由光气、三光气以及下述式(4)所表示的有机酸二酰氯所构成，

(式(3)中，R¹、R²和n与上述式(1)同义，式(4)中，R⁵为式(5)(i)～(iii)所表示的2价基团中的任一种，式(5)(i)中，m为1～6的整数，式(5)(ii)中，R³和R⁴各自独立地为氢原子、碳原子数为1～12的烷基、或碳原子数为1～6的烷氧基)。