[发明专利]微细加工处理剂以及使用其的微细加工处理方法有效

专利信息
申请号: 201080035331.9 申请日: 2010-08-09
公开(公告)号: CN102473636A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 宫下雅之;久次米孝信;二井启一;长谷部类;石丸慧 申请(专利权)人: 斯泰拉化工公司
主分类号: H01L21/308 分类号: H01L21/308;H01L21/304;H01L21/306
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 微细 加工 处理 以及 使用 方法
【权利要求书】:

1.一种微细加工处理剂,是用于形成有硅氮化膜和硅氧化膜的被处理物的微细加工的微细加工处理剂,

其中,包含下述(A)成分或(B)成分中的至少任一方、下述(C)成分和下述(D)成分;

下述(A)成分或(B)成分中的至少任一方与(C)成分的含量的合计相对于微细加工处理剂的总量为90重量%以下;

(A)成分:0.01重量%~20重量%的氟化氢,

(B)成分:0.1重量%~20重量%的氟化铵或氟化季铵盐中的至少任一方,

(C)成分:1重量%~80重量%的选自盐酸、硝酸、硫酸和磷酸中的至少任一种酸,

(D)成分:水。

2.根据权利要求1所述的微细加工处理剂,其中,所述硅氧化膜为自然氧化膜、热硅氧化膜、无掺杂硅酸盐玻璃膜、磷掺杂硅酸盐玻璃膜、硼掺杂硅酸盐玻璃膜、磷硼掺杂硅酸盐玻璃膜、TEOS膜或者含氟硅氧化膜中的任一种。

3.一种微细加工处理方法,其中,使用权利要求1或2所述的微细加工处理剂,选择性地将硅氧化膜进行微细加工。

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