[发明专利]宏观物体表面包含至少一层反射薄膜的结构,制造结构的方法,及其用途

权利要求书

1.在宏观物体(1)表面上包含至少一层反射薄膜的结构，其特征在于没有所述至少一层薄膜时，所述宏观物体(1)的表面反射可见光波段内少于50％的入射光并且是不透明的，在所述宏观物体表面上有所述至少一层薄膜时，从所述宏观物体表面的可见光反射在有效视角内在光谱上基本上是均匀的和平的，所述至少一层薄膜(5、7、9)是介电的并对可见光基本透明，所述至少一层薄膜(5、7、9)通过将所述宏观物体(1)的表面暴露于两种或更多种初级粒子的交替重复、基本上自限性的表面反应而构建的，用于增加从所述表面镜反射所述可见光波段内可见光的反射率。

2.权利要求1所述的结构，其特征在于所述宏观物体(1)被安排以发挥RF功能或电绝缘功能。

3.权利要求1-2任一项所述的结构，其特征在于没有所述至少一层薄膜时，所述宏观物体(1)的表面反射所述可见光波段内少于40％，优选地少于20％，最优选地少于10％的入射光。

4.权利要求1-3任一项所述的结构，其特征在于没有所述至少一层薄膜时，从所述宏观物体(1)表面的可见光漫反射在光谱上基本上是均匀的和平的。

5.权利要求1-4任一项所述的结构，其特征在于没有所述至少一层薄膜时，所述宏观物体的表面基本是黑色的。

6.权利要求1-5任一项所述的结构，其特征在于所述宏观物体的表面选自聚合物和玻璃。

7.权利要求1-6任一项所述的结构，其特征在于所述至少一层介电薄膜(5、7、9)是通过原子层沉积型方法构建的。

8.权利要求1-7任一项所述的结构，其特征在于所述结构只包含一层薄膜(9)，所述薄膜(9)在所述可见光波长范围内的折射率是1.5以上，优选地1.8以上，最优选地2.1以上。

9.权利要求1-8任一项所述的结构，其特征在于所述薄膜(9)的厚度在20nm至100nm的范围内。

10.权利要求1-9任一项所述的结构，其特征在于所述薄膜(5、7、9)的材料选自氧化钛和氧化铝。

11.在宏观物体(1)表面上制造包含至少一层反射薄膜的结构的方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：

-通过将所述表面暴露于两种或更多种初级粒子的交替重复、基本上自限性的表面反应在所述表面上沉积至少一层薄膜(5、7、9)，在没有所述至少一层薄膜时，所述宏观物体(1)的表面反射可见光波段内少于50％的入射光并且是不透明的，在所述宏观物体表面上有所述至少一层薄膜时，从所述宏观物体表面的可见光反射在有效视角内在光谱上基本上是均匀的和平的，所述至少一层薄膜(5、7、9)是介电的并对可见光基本上透明，用于增加从所述表面镜反射所述可见光波段内可见光的反射率。

12.权利要求11所述的方法，其特征在于所述宏观物体(1)被安排以发挥RF功能或电绝缘功能。

13.权利要求11-12任一项所述的方法，其特征在于没有所述至少一层薄膜时，所述宏观物体(1)的表面反射可见光波段内少于40％，优选地少于20％，最优选地少于10％的入射光。

14.权利要求11-13任一项所述的方法，其特征在于没有所述至少一层薄膜时，从所述宏观物体(1)的表面的可见光漫反射在光谱上基本上是均匀的和平的。

15.权利要求11-14任一项所述的方法，其特征在于没有所述至少一层薄膜时，所述宏观物体的表面基本上是黑色的。

16.权利要求11-15任一项所述的方法，其特征在于所述宏观物体的表面选自聚合物和玻璃。

17.权利要求11-16任一项所述的方法，其特征在于沉积所述至少一层介电薄膜(5、7、9)的步骤包括通过原子层沉积型方法沉积所述至少一层介电薄膜(5、7、9)。

18.权利要求11-17任一项所述的方法，其特征在于所述结构只包含一层薄膜(9)，所述薄膜(9)在可见光波长范围内的折射率是1.5以上，优选地1.8以上，最优选地2.2以上。

19.权利要求11-18任一项所述的方法，其特征在于述薄膜(9)的厚度在20nm至100nm的范围内。