[发明专利]一种双面电路板的生产工艺有效

专利信息
申请号: 201010577088.5 申请日: 2010-12-07
公开(公告)号: CN102573298A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 何忠亮 申请(专利权)人: 何忠亮
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 代理人: 胡坚
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 双面 电路板 生产工艺
【权利要求书】:

1.一种双面电路板的生产工艺,其特征在于,生产工艺包括:

(1)、选择元件面及背面均设有导电层的覆铜板或覆铝板为基板;

(2)、在所选基板为覆铜板时,工艺为:

A、在基板背面根据电路设计上抗蚀层,并经蚀刻,得到基板背面带有抗蚀层的单面电路基板;

B、在基板元件面根据电路设计上抗蚀层,并经蚀刻,得到基板元件面带有抗蚀层的双面电路基板,去除该层抗蚀层,并对该层不需要焊接的线路处上阻焊剂;

C、在需要使元件面及背面所设导电层电导通的位置,用穿刺方式刺孔,使元件面及背面所设导电层形成电导通的通孔;

D、使穿刺出端毛刺平整,得双面电路板。

(3)、在所选基板为覆铝板时,工艺为:

A、在基板背面根据电路设计上抗蚀层,并经蚀刻,得到基板背面带有抗蚀层的单面电路基板;

B、在基板元件面根据电路设计上抗蚀层,并经蚀刻,得到基板元件面带有抗蚀层的双面电路基板,并去除该层抗蚀层;

C、在需要使元件面及背面所设导电层电导通的位置,用穿刺方式刺孔,使元件面及背面所设导电层形成电导通的通孔;

D、使穿刺出端毛刺平整,得双面电路板。

2.根据权利要求1所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,所述基板为覆铜板时的A步骤后的步骤可为:

B1、在基板元件面及背面根据电路设计上抗蚀层,并经蚀刻,得到基板元件面带有抗蚀层的双面电路基板,去除该层抗蚀层;

C1、在需要使元件面及背面所设导电层电导通的位置,用穿刺方式刺孔,使元件面及背面所设导电层形成电导通的通孔;

D1、使穿刺出端毛刺平整;

E1、并对元件面及背面不需要焊接的线路处上阻焊剂,得双面电路板。

3.根据权利要求1所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,所述基板为覆铜板时的A步骤后的步骤可为:

B2、在基板元件面根据电路设计上抗蚀层,并经蚀刻,得到基板元件面带有抗蚀层的双面电路基板,去除该层抗蚀层;

C2、对元件面及背面不需要焊接的线路处上阻焊剂;

D2、在需要使元件面及背面所设导电层电导通的位置,用穿刺方式刺孔,使元件面及背面所设导电层形成电导通的通孔;

E1、使穿刺出端毛刺平整,得双面电路板。

4.根据权利要求1或2或3所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,所述基板为覆铜板时的D步骤中,得到穿刺出端毛刺平整的双面电路板后,为保证使元件面及背面所设导电层形成通孔是电导通的,可在通孔处上锡或导电胶。

5.根据权利要求1或2或3所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,所述基板为覆铝板时的D步骤中,得到穿刺出端毛刺平整的双面电路板后,为保证使元件面及背面所设导电层形成通孔是电导通的,可在通孔处上导电胶。

6.根据权利要求1或2或3所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,所述阻焊剂是阻焊油墨或覆盖膜。

7.根据权利要求1或2或3所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,元件面及背面均设有导电层的覆铜板或覆铝板的元件面和背面的覆铜面或覆铝面的厚度不同,其背面的厚度大于元件面的厚度。

8.根据权利要求1或2或3所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于在需要使元件面及背面所设导电层电导通的位置,用穿刺方式刺孔,一个电导通的位置,刺孔可以是一个或一个以上。

9.根据权利要求7所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,覆铜板或覆铝板的元件面和背面的覆铜面或覆铝面,其背面的厚度根据电路设计要求及材料导电率计算所得。

10.根据权利要求1或2或3所述的双面电路板的生产工艺,其特征在于,所述基板为柔性基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于何忠亮,未经何忠亮许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010577088.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top