[发明专利]负型光阻组合物及图案形成方法有效
申请号: | 201010568163.1 | 申请日: | 2010-11-29 |
公开(公告)号: | CN102096321A | 公开(公告)日: | 2011-06-15 |
发明(设计)人: | 田中启顺;增永惠一;土门大将;渡边聪 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/038 | 分类号: | G03F7/038;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 菅兴成;吴小瑛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 负型光阻 组合 图案 形成 方法 | ||
1.一种负型光阻组合物,其至少含有:
(A)为碱可溶性且可由于酸的作用而变为碱不溶性的基础聚合物;
(B)产酸剂;及
(C)碱性成分;
其特征在于:所述基础聚合物至少含有一高分子化合物,该高分子化合物含有由下述通式(1)及下述通式(2)所表示的重复单元,且重量平均分子量为1,000~10,000,
通式中,R1表示氢原子或甲基,s表示0或1;t表示0~2的整数;R2表示氢原子或碳数为1~6的烷基;B1、B2分别独立地表示单键、或链中间可含有醚键的碳数为1~10的伸烷基;a表示0~3的整数,b表示1~3的整数。
2.根据权利要求1所述的负型光阻组合物,其中:
所述(C)碱性成分,至少包含一种以上的具有羧基且不具有以共价键与作为碱性中心的氮原子键合的氢的胺化合物。
3.根据权利要求1所述的负型光阻组合物,其中:
所述高分子化合物,进一步含有由下述通式(3)及/或通式(4)所表示的重复单元,
通式中,R3、R4、R5分别独立地表示氢原子、卤原子、可被取代的羟基、烷氧基及烷基中的任一者,u及v为0~5的整数。
4.根据权利要求2所述的负型光阻组合物,其中:
所述高分子化合物,进一步含有由下述通式(3)及/或通式(4)所表示的重复单元,
通式中,R3、R4、R5分别独立地表示氢原子、卤原子、可被取代的羟基、烷氧基及烷基中的任一者,u及v为0~5的整数。
5.根据权利要求2所述的负型光阻组合物,其中:
所述具有羧基且不具有以共价键与作为碱性中心的氮原子键合的氢的胺化合物,含有由下述通式(5)~(7)所表示的化合物中的一种以上,
通式中,R6、R7分别独立地表示碳数为1~20的直链状、支链状或环状的烷基、碳数为6~20的芳基、碳数为7~20的芳烷基、碳数为2~10的羟基烷基、碳数为2~10的烷氧基烷基、碳数为3~10的酰氧基烷基及碳数为1~10的烷硫基烷基中的任一者;而且,R6、R7这两者也可以键合而形成环状结构;R8是氢原子、碳数为1~20的直链状、支链状或环状的烷基、碳数为6~20的芳基、碳数为7~20的芳烷基、碳数为2~10的羟基烷基、碳数为2~10的烷氧基烷基、碳数为3~10的酰氧基烷基、碳数为1~10的烷硫基烷基及卤基中的任一者;R9是单键、碳数为1~20的直链状、支链状或环状的伸烷基及碳数为6~20的伸芳基中的任一者;
通式中,R6、R7、R8、R9如上述所示;
通式中,R10是碳数为2~20的直链状或支链状的可被取代的伸烷基,其中伸烷基的碳-碳间可含有一个或多个羰基、醚基、酯基、硫醚基;另外,R11是碳数为1~20的直链状、支链状或环状的伸烷基及碳数为6~20的伸芳基中的任一者。
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